Il mandrino per wafer in carburo di silicio Semicorex è un componente essenziale nel processo epitassiale dei semiconduttori. Funziona come un mandrino a vuoto per trattenere saldamente i wafer durante le fasi critiche di produzione. Ci impegniamo a fornire prodotti della massima qualità a prezzi competitivi, posizionandoci come il vostro partner a lungo termine in Cina.*
Per saperne di piùInvia richiestaSemicorex SiC Ceramic Chuck è un componente altamente specializzato progettato per l'uso nei processi epitassiali dei semiconduttori, dove il suo ruolo di mandrino a vuoto è cruciale. Con il nostro impegno nel fornire prodotti della massima qualità a prezzi competitivi, siamo pronti a diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.*
Per saperne di piùInvia richiestaSemicorex è impegnata nella produzione e fornitura di crogioli per silicio monocristallino che presentano purezza eccezionale, proprietà termiche superiori, resistenza meccanica e compatibilità con metodi di crescita consolidati, rendendolo indispensabile per soddisfare le rigorose esigenze dell'industria elettronica e solare.**
Per saperne di piùInvia richiestaIl soffione doccia Semicorex CVD SiC è un componente essenziale nei moderni processi CVD per ottenere film sottili uniformi e di alta qualità con efficienza e produttività migliorate. Il controllo superiore del flusso di gas del soffione CVD SiC, il contributo alla qualità della pellicola e la lunga durata lo rendono indispensabile per le applicazioni esigenti di produzione di semiconduttori.**
Per saperne di piùInvia richiestaIl suscettore Semicorex SiC ALD offre numerosi vantaggi nei processi ALD, tra cui stabilità alle alte temperature, maggiore uniformità e qualità della pellicola, migliore efficienza del processo e durata prolungata del suscettore. Questi vantaggi rendono il susceptor SiC ALD uno strumento prezioso per ottenere film sottili ad alte prestazioni in varie applicazioni impegnative.**
Per saperne di piùInvia richiestaIl suscettore planetario Semicorex ALD è importante nelle apparecchiature ALD grazie alla loro capacità di resistere a condizioni di lavorazione difficili, garantendo la deposizione di film di alta qualità per una varietà di applicazioni. Poiché la domanda di dispositivi semiconduttori avanzati con dimensioni più piccole e prestazioni migliorate continua a crescere, si prevede che l'uso del suscettore planetario ALD nell'ALD si espanderà ulteriormente.**
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