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Omoepitassia ed eteroepitassia spiegate semplicemente

L’omepitassia e l’eteroepitassia svolgono un ruolo fondamentale nella scienza dei materiali. L'omepitassia prevede la crescita di uno strato cristallino su un substrato dello stesso materiale, garantendo difetti minimi grazie al perfetto adattamento del reticolo. Al contrario, l'eteroepitassia fa cr......

Cos'è l'incisione al plasma a bassa temperatura?

Il plasma è il quarto stato della materia e svolge un ruolo cruciale sia nelle applicazioni industriali che nei fenomeni naturali.

La struttura del mandrino elettrostatico (ESC)

Un mandrino elettrostatico (ESC) è un dispositivo utilizzato per mantenere in posizione i wafer semiconduttori durante processi quali incisione, deposizione o lucidatura.

Wolfspeed sospende i piani di costruzione di uno stabilimento tedesco di semiconduttori

Secondo quanto riportato dai media tedeschi, il produttore americano di chip Wolfspeed avrebbe sospeso il suo progetto di costruire uno stabilimento di semiconduttori in Germania.

Come viene prodotto il carburo di silicio?

Lucidatura finale della superficie del wafer di silicio

Per soddisfare i requisiti di alta qualità dei processi di circuiti di chip IC con larghezze di linea inferiori a 0,13 μm fino a 28 nm per wafer di lucidatura in silicio da 300 mm di diametro, è essenziale ridurre al minimo la contaminazione da impurità, come gli ioni metallici, sulla superficie del......