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Notizia
Processo di drogaggio dei semiconduttori
Una delle proprietà uniche dei materiali semiconduttori è che la loro conduttività, così come il tipo di conduttività (tipo N o tipo P), può essere creata e controllata attraverso un processo chiamato drogaggio. Ciò comporta l'introduzione di impurità specializzate, note come droganti, nel materiale......
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Processo PECVD
La deposizione chimica in fase vapore potenziata dal plasma (PECVD) è una tecnologia ampiamente utilizzata nella produzione di chip. Utilizza l'energia cinetica degli elettroni all'interno del plasma per attivare le reazioni chimiche nella fase gassosa, ottenendo così la deposizione di film sottile.
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Rilevamento dei difetti nella lavorazione dei wafer di carburo di silicio
I substrati SiC sono il componente più importante nel settore del carburo di silicio, rappresentando quasi il 50% del suo valore. Senza substrati SiC, è impossibile produrre dispositivi SiC, rendendoli il materiale di base essenziale.
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