La deposizione chimica da fase vapore (CVD) si riferisce a una tecnologia di processo in cui più reagenti gassosi a pressioni parziali variabili subiscono una reazione chimica in condizioni specifiche di temperatura e pressione. La sostanza solida risultante si deposita sulla superficie del material......
Per saperne di piùNell'elettronica moderna, nell'optoelettronica, nella microelettronica e nell'informatica, i substrati semiconduttori e le tecnologie epitassiali sono indispensabili. Forniscono una solida base per la produzione di dispositivi a semiconduttore ad alte prestazioni e alta affidabilità. Con il continuo......
Per saperne di piùIl componente del forno per la crescita dei cristalli SiC di Semicorex, il cilindro in grafite porosa, porterà tre vantaggi principali e potrà rafforzare efficacemente la competitività dei substrati SiC domestici:
Per saperne di piùRecentemente, la nostra azienda ha annunciato di aver sviluppato con successo un monocristallo di ossido di gallio da 6 pollici utilizzando il metodo di fusione, diventando la prima azienda industrializzata nazionale a padroneggiare la tecnologia di preparazione del substrato monocristallino di ossi......
Per saperne di piùIl processo di crescita del silicio monocristallino avviene prevalentemente all'interno di un campo termico, dove la qualità dell'ambiente termico ha un impatto significativo sulla qualità dei cristalli e sull'efficienza della crescita. La progettazione del campo termico gioca un ruolo fondamentale ......
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