Quando si tratta di produzione di semiconduttori, il suscettore cilindrico rivestito in SiC ad alta temperatura Semicorex è la scelta migliore per prestazioni e affidabilità superiori. Il suo rivestimento SiC di alta qualità e l'eccezionale conducibilità termica lo rendono ideale per l'uso anche negli ambienti più esigenti ad alta temperatura e corrosivi.
Il suscettore a cilindro rivestito in SiC ad alta temperatura Semicorex è la scelta perfetta per la crescita di cristalli singoli e altre applicazioni di produzione di semiconduttori che richiedono un'elevata resistenza al calore e alla corrosione. Il suo rivestimento in carburo di silicio offre proprietà di protezione e distribuzione del calore superiori, garantendo prestazioni affidabili e costanti anche negli ambienti più difficili.
In Semicorex, ci concentriamo sulla fornitura di suscettori cilindrici rivestiti in SiC ad alta temperatura e di alta qualità, diamo la priorità alla soddisfazione del cliente e forniamo soluzioni convenienti. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine, offrendo prodotti di alta qualità e un servizio clienti eccezionale.
Parametri del suscettore del barilotto rivestito di SiC ad alta temperatura
Principali caratteristiche del rivestimento CVD-SIC |
||
Proprietà SiC-CVD |
||
Struttura di cristallo |
FCC fase β |
|
Densità |
g/cm³ |
3.21 |
Durezza |
Durezza Vickers |
2500 |
Granulometria |
μm |
2~10 |
Purezza chimica |
% |
99.99995 |
Capacità termica |
J·kg-1 ·K-1 |
640 |
Temperatura di sublimazione |
℃ |
2700 |
Resistenza alla flessione |
MPa (RT 4 punti) |
415 |
Modulo di Young |
Gpa (curva 4pt, 1300℃) |
430 |
Espansione termica (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Conduttività termica |
(W/mK) |
300 |
Caratteristiche del suscettore del barilotto rivestito di SiC ad alta temperatura
- Sia il substrato di grafite che lo strato di carburo di silicio hanno una buona densità e possono svolgere un buon ruolo protettivo in ambienti di lavoro ad alta temperatura e corrosivi.
- Il suscettore rivestito di carburo di silicio utilizzato per la crescita di un singolo cristallo ha una planarità superficiale molto elevata.
- Ridurre la differenza del coefficiente di espansione termica tra il substrato di grafite e lo strato di carburo di silicio, migliorare efficacemente la forza di adesione per prevenire fessurazioni e delaminazione.
- Sia il substrato di grafite che lo strato di carburo di silicio hanno un'elevata conduttività termica ed eccellenti proprietà di distribuzione del calore.
- Alto punto di fusione, resistenza all'ossidazione ad alta temperatura, resistenza alla corrosione.