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Suscettori per reattori MOCVD

Suscettori per reattori MOCVD

I suscettori per reattori MOCVD di Semicorex sono prodotti di alta qualità utilizzati nell'industria dei semiconduttori per varie applicazioni come strati di carburo di silicio e semiconduttori epitassia. Il nostro prodotto è disponibile nella forma di ingranaggio o anello ed è progettato per ottenere resistenza all'ossidazione ad alta temperatura, rendendolo stabile a temperature fino a 1600°C.

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Descrizione del prodotto

I nostri suscettori per reattori MOCVD sono realizzati mediante deposizione chimica di vapore CVD in condizioni di clorazione ad alta temperatura, garantendo un'elevata purezza. La superficie del prodotto è densa, con particelle fini ed elevata durezza, che lo rendono resistente alla corrosione da acidi, alcali, sale e reagenti organici.
I nostri suscettori per reattori MOCVD sono progettati per garantire il rivestimento su tutte le superfici, evitando il distacco e ottenendo il miglior modello di flusso di gas laminare. Il prodotto garantisce uniformità del profilo termico e previene qualsiasi contaminazione o diffusione di impurità durante il processo, garantendo risultati di alta qualità.
In Semicorex, diamo priorità alla soddisfazione del cliente e forniamo soluzioni economicamente vantaggiose. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine, offrendo prodotti di alta qualità e un servizio clienti eccezionale.


Parametri dei suscettori per reattori MOCVD

Specifiche principali del rivestimento CVD-SIC

Proprietà SiC-CVD

Struttura cristallina

Fase β dell'FCC

Densità

g/cm³

3.21

Durezza

Durezza Vickers

2500

Granulometria

µm

2~10

Purezza chimica

%

99.99995

Capacità termica

J kg-1 K-1

640

Temperatura di sublimazione

2700

Forza flessionale

MPa (RT 4 punti)

415

Modulo di Young

Gpa (curvatura 4 punti, 1300 ℃)

430

Dilatazione Termica (C.T.E)

10-6K-1

4.5

Conduttività termica

(W/mK)

300


Caratteristiche del suscettore in grafite rivestito in SiC per MOCVD

- Evitare il distacco e garantire il rivestimento su tutta la superficie
Resistenza all'ossidazione alle alte temperature: Stabile alle alte temperature fino a 1600°C
Elevata purezza: prodotto mediante deposizione chimica di vapore CVD in condizioni di clorazione ad alta temperatura.
Resistenza alla corrosione: elevata durezza, superficie densa e particelle fini.
Resistenza alla corrosione: acidi, alcali, sale e reagenti organici.
- Ottieni il miglior modello di flusso di gas laminare
- Garantire l'uniformità del profilo termico
- Evitare qualsiasi contaminazione o diffusione di impurità




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