I suscettori per reattori MOCVD di Semicorex sono prodotti di alta qualità utilizzati nell'industria dei semiconduttori per varie applicazioni come strati di carburo di silicio e semiconduttori epitassia. Il nostro prodotto è disponibile nella forma di ingranaggio o anello ed è progettato per ottenere resistenza all'ossidazione ad alta temperatura, rendendolo stabile a temperature fino a 1600°C.
I nostri suscettori per reattori MOCVD sono realizzati mediante deposizione chimica di vapore CVD in condizioni di clorazione ad alta temperatura, garantendo un'elevata purezza. La superficie del prodotto è densa, con particelle fini ed elevata durezza, che lo rendono resistente alla corrosione da acidi, alcali, sale e reagenti organici.
I nostri suscettori per reattori MOCVD sono progettati per garantire il rivestimento su tutte le superfici, evitando il distacco e ottenendo il miglior modello di flusso di gas laminare. Il prodotto garantisce uniformità del profilo termico e previene qualsiasi contaminazione o diffusione di impurità durante il processo, garantendo risultati di alta qualità.
In Semicorex, diamo priorità alla soddisfazione del cliente e forniamo soluzioni economicamente vantaggiose. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine, offrendo prodotti di alta qualità e un servizio clienti eccezionale.
Parametri dei suscettori per reattori MOCVD
Specifiche principali del rivestimento CVD-SIC |
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Proprietà SiC-CVD |
||
Struttura cristallina |
Fase β dell'FCC |
|
Densità |
g/cm³ |
3.21 |
Durezza |
Durezza Vickers |
2500 |
Granulometria |
µm |
2~10 |
Purezza chimica |
% |
99.99995 |
Capacità termica |
J kg-1 K-1 |
640 |
Temperatura di sublimazione |
℃ |
2700 |
Forza flessionale |
MPa (RT 4 punti) |
415 |
Modulo di Young |
Gpa (curvatura 4 punti, 1300 ℃) |
430 |
Dilatazione Termica (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Conduttività termica |
(W/mK) |
300 |
Caratteristiche del suscettore in grafite rivestito in SiC per MOCVD
- Evitare il distacco e garantire il rivestimento su tutta la superficie
Resistenza all'ossidazione alle alte temperature: Stabile alle alte temperature fino a 1600°C
Elevata purezza: prodotto mediante deposizione chimica di vapore CVD in condizioni di clorazione ad alta temperatura.
Resistenza alla corrosione: elevata durezza, superficie densa e particelle fini.
Resistenza alla corrosione: acidi, alcali, sale e reagenti organici.
- Ottieni il miglior modello di flusso di gas laminare
- Garantire l'uniformità del profilo termico
- Evitare qualsiasi contaminazione o diffusione di impurità