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Suscettori per reattori MOCVD

Suscettori per reattori MOCVD

I suscettori Semicorex per i reattori MOCVD sono prodotti di alta qualità utilizzati nell'industria dei semiconduttori per varie applicazioni come strati di carburo di silicio e semiconduttori epitassici. Il nostro prodotto è disponibile in forma di ingranaggio o anello ed è progettato per ottenere una resistenza all'ossidazione ad alta temperatura, rendendolo stabile a temperature fino a 1600°C.

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Descrizione del prodotto

I nostri suscettori per reattori MOCVD sono realizzati mediante deposizione chimica da vapore CVD in condizioni di clorurazione ad alta temperatura, garantendo un'elevata purezza. La superficie del prodotto è densa, con particelle fini ed elevata durezza, che lo rende resistente alla corrosione da acidi, alcali, sale e reagenti organici.
I nostri suscettori per reattori MOCVD sono progettati per garantire il rivestimento su tutte le superfici, evitando il distacco e ottenendo il miglior schema di flusso laminare del gas. Il prodotto garantisce l'uniformità del profilo termico e impedisce qualsiasi contaminazione o diffusione di impurità durante il processo, garantendo risultati di alta qualità.
In Semicorex, diamo la priorità alla soddisfazione del cliente e forniamo soluzioni convenienti. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine, offrendo prodotti di alta qualità e un servizio clienti eccezionale.


Parametri dei suscettori per i reattori MOCVD

Principali specifiche del rivestimento CVD-SIC

Proprietà SiC-CVD

Struttura di cristallo

FCC fase β

Densità

g/cm³

3.21

Durezza

Durezza Vickers

2500

Granulometria

μm

2~10

Purezza chimica

%

99.99995

Capacità termica

J·kg-1 ·K-1

640

Temperatura di sublimazione

2700

Resistenza alla flessione

MPa (RT 4 punti)

415

Modulo di Young

Gpa (curva 4pt, 1300℃)

430

Espansione termica (C.T.E)

10-6K-1

4.5

Conduttività termica

(W/mK)

300


Caratteristiche del suscettore in grafite rivestito di SiC per MOCVD

- Evitare di staccarsi e garantire il rivestimento su tutta la superficie
Resistenza all'ossidazione ad alta temperatura: Stabile ad alte temperature fino a 1600°C
Elevata purezza: prodotto mediante deposizione chimica da vapore CVD in condizioni di clorurazione ad alta temperatura.
Resistenza alla corrosione: elevata durezza, superficie densa e particelle fini.
Resistenza alla corrosione: acidi, alcali, sale e reagenti organici.
- Ottieni il miglior modello di flusso di gas laminare
- Garantire l'uniformità del profilo termico
- Prevenire qualsiasi contaminazione o diffusione di impurità




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