Suscettore MOCVD con substrato in grafite di carburo di silicio

Il susceptor MOCVD con substrato in grafite di carburo di silicio Semicorex è la scelta definitiva per i produttori di semiconduttori che cercano un supporto di alta qualità in grado di offrire prestazioni e durata superiori. Il suo materiale avanzato garantisce un profilo termico uniforme e un modello di flusso di gas laminare, offrendo wafer di alta qualità.

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Descrizione del prodotto

Il nostro suscettore MOCVD con substrato in grafite di carburo di silicio è altamente puro, realizzato mediante deposizione chimica di vapore CVD in condizioni di clorazione ad alta temperatura, garantendo l'uniformità e la consistenza del prodotto. È inoltre altamente resistente alla corrosione, con una superficie densa e particelle fini che lo rendono resistente agli acidi, agli alcali, al sale e ai reagenti organici. La sua resistenza all'ossidazione alle alte temperature garantisce stabilità alle alte temperature fino a 1600°C.
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Parametri del suscettore MOCVD con substrato di grafite di carburo di silicio

Specifiche principali del rivestimento CVD-SIC
Proprietà SiC-CVD
Struttura cristallina	Fase β dell'FCC
Densità	g/cm³	3.21
Durezza	Durezza Vickers	2500
Granulometria	µm	2~10
Purezza chimica	%	99.99995
Capacità termica	J kg-1 K-1	640
Temperatura di sublimazione	℃	2700
Forza flessionale	MPa (RT 4 punti)	415
Modulo di Young	Gpa (curvatura 4 punti, 1300 ℃)	430
Dilatazione Termica (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Conduttività termica	(W/mK)	300

Caratteristiche del suscettore in grafite rivestito in SiC per MOCVD

- Evitare il distacco e garantire il rivestimento su tutta la superficie
Resistenza all'ossidazione alle alte temperature: Stabile alle alte temperature fino a 1600°C
Elevata purezza: prodotto mediante deposizione chimica di vapore CVD in condizioni di clorazione ad alta temperatura.
Resistenza alla corrosione: elevata durezza, superficie densa e particelle fini.
Resistenza alla corrosione: acidi, alcali, sale e reagenti organici.
- Ottieni il miglior modello di flusso di gas laminare
- Garantire l'uniformità del profilo termico
- Evitare qualsiasi contaminazione o diffusione di impurità

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