Il porta wafer per incisione ICP di Semicorex è la soluzione perfetta per i processi di manipolazione dei wafer ad alta temperatura come epitassia e MOCVD. Con una resistenza all'ossidazione stabile e ad alta temperatura fino a 1600°C, i nostri supporti assicurano profili termici uniformi, schemi di flusso laminare del gas e prevengono la contaminazione o la diffusione di impurità.
Per saperne di piùInvia richiestaIn Semicorex, abbiamo progettato il PSS Etching Carrier Tray per LED appositamente per gli ambienti difficili richiesti per la crescita epitassiale e i processi di manipolazione dei wafer. Il nostro vettore di grafite ultrapura è ideale per le fasi di deposizione di film sottili come MOCVD, suscettori epitassici, piattaforme pancake o satellitari e per l'elaborazione della manipolazione dei wafer come l'incisione. Il supporto rivestito in SiC ha un'elevata resistenza al calore e alla corrosione, eccellenti proprietà di distribuzione del calore e un'elevata conducibilità termica. Il nostro PSS Etching Carrier Tray per LED è economico e offre un buon vantaggio in termini di prezzo. Ci rivolgiamo a molti mercati europei e americani e non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo te......
Per saperne di piùInvia richiestaSemicorex PSS Etching Carrier Plate for Semiconductor è appositamente progettato per ambienti di pulizia chimica ad alta temperatura e difficili richiesti per la crescita epitassiale e i processi di manipolazione dei wafer. La nostra ultra pura PSS Etching Carrier Plate for Semiconductor è progettata per supportare wafer durante le fasi di deposizione di film sottili come MOCVD e suscettori epitassici, pancake o piattaforme satellitari. Il nostro supporto rivestito in SiC ha un'elevata resistenza al calore e alla corrosione, eccellenti proprietà di distribuzione del calore e un'elevata conduttività termica. Forniamo soluzioni convenienti ai nostri clienti e i nostri prodotti coprono molti mercati europei e americani. Semicorex non vede l'ora di essere il vostro partner a lungo termine in C......
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