La piastra SiC di Semicorex per il processo di incisione ICP è la soluzione perfetta per requisiti di lavorazione chimica aggressiva e ad alta temperatura nella deposizione di film sottile e nella gestione dei wafer. Il nostro prodotto vanta una resistenza al calore superiore e un'uniformità termica uniforme, garantendo spessore e resistenza costanti dello strato epi. Con una superficie pulita e liscia, il nostro rivestimento in cristallo SiC ad elevata purezza offre una gestione ottimale dei wafer incontaminati.
Per saperne di piùInvia richiestaSupporto per incisione ICP rivestito in SiC Semicorex progettato specificamente per apparecchiature epitassia con elevata resistenza al calore e alla corrosione in Cina. I nostri prodotti hanno un buon vantaggio di prezzo e coprono molti mercati europei e americani. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.
Per saperne di piùInvia richiestaIl supporto per supporto per incisione di Semicorex per incisione PSS è progettato per le applicazioni di apparecchiature per epitassia più esigenti. Il nostro supporto in grafite ultrapura può resistere ad ambienti difficili, temperature elevate e pulizia chimica aggressiva. Il supporto rivestito in SiC ha eccellenti proprietà di distribuzione del calore, elevata conduttività termica ed è conveniente. I nostri prodotti sono ampiamente utilizzati in molti mercati europei e americani e non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.
Per saperne di piùInvia richiestaIl trasportatore di movimentazione PSS di Semicorex per il trasferimento di wafer è progettato per le applicazioni di apparecchiature epitassia più esigenti. Il nostro supporto in grafite ultrapura può resistere ad ambienti difficili, temperature elevate e pulizia chimica aggressiva. Il supporto rivestito in SiC ha eccellenti proprietà di distribuzione del calore, elevata conduttività termica ed è conveniente. I nostri prodotti sono ampiamente utilizzati in molti mercati europei e americani e non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.
Per saperne di piùInvia richiestaLa piastra di incisione in silicio di Semicorex per applicazioni di incisione PSS è un supporto in grafite ultrapura e di alta qualità, progettato specificamente per i processi di crescita epitassiale e di gestione dei wafer. Il nostro trasportino può resistere ad ambienti difficili, temperature elevate e pulizia chimica aggressiva. La piastra di incisione in silicio per applicazioni di incisione PSS ha eccellenti proprietà di distribuzione del calore, elevata conduttività termica ed è conveniente. I nostri prodotti sono ampiamente utilizzati in molti mercati europei e americani e non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.
Per saperne di piùInvia richiestaIl vassoio portante per incisione PSS di Semicorex per la lavorazione dei wafer è progettato specificamente per le applicazioni impegnative di apparecchiature per epitassia. Il nostro supporto in grafite ultrapura è ideale per fasi di deposizione di film sottili come MOCVD, suscettori epitassia, piattaforme pancake o satellitari e processi di gestione dei wafer come l'incisione. Il vassoio portante per incisione PSS per la lavorazione dei wafer presenta un'elevata resistenza al calore e alla corrosione, eccellenti proprietà di distribuzione del calore e un'elevata conduttività termica. I nostri prodotti sono convenienti e hanno un buon vantaggio di prezzo. Ci rivolgiamo a molti mercati europei e americani e non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.
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