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Semicorex è un produttore e fornitore professionale in Cina. La nostra fabbrica fornisce suscettore a botte, suscettore mocvd, barca wafer, ecc. Design estremo, materie prime di qualità, prestazioni elevate e prezzo competitivo sono ciò che ogni cliente desidera, ed è anche ciò che possiamo offrirti. Prendiamo l'alta qualità, il prezzo ragionevole e il servizio perfetto.
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Deposizione epitassiale CVD nel reattore a barile

Deposizione epitassiale CVD nel reattore a barile

Semicorex CVD Deposition In Barrel Reactor è un prodotto altamente durevole e affidabile per la crescita di strati epissiali su chip wafer. La sua resistenza all'ossidazione alle alte temperature e l'elevata purezza lo rendono adatto all'uso nell'industria dei semiconduttori. Il suo profilo termico uniforme, il modello di flusso laminare del gas e la prevenzione della contaminazione lo rendono la scelta ideale per la crescita dello strato epissiale di alta qualità.

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Deposizione epitassiale di silicio nel reattore a barile

Deposizione epitassiale di silicio nel reattore a barile

Se avete bisogno di un suscettore in grafite ad alte prestazioni da utilizzare in applicazioni di produzione di semiconduttori, il reattore a deposizione epitassiale in barile di silicio Semicorex è la scelta ideale. Il rivestimento SiC di elevata purezza e l'eccezionale conduttività termica forniscono proprietà di protezione e distribuzione del calore superiori, rendendolo la scelta ideale per prestazioni affidabili e costanti anche negli ambienti più difficili.

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Sistema Epi a canna riscaldata induttivamente

Sistema Epi a canna riscaldata induttivamente

Se hai bisogno di un suscettore in grafite con eccezionali proprietà di conduttività termica e distribuzione del calore, non cercare oltre il sistema Epi a barile riscaldato a induzione Semicorex. Il suo rivestimento SiC ad elevata purezza fornisce una protezione superiore in ambienti corrosivi e ad alta temperatura, rendendolo la scelta ideale per l'uso in applicazioni di produzione di semiconduttori.

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Struttura a cilindro per reattore epitassiale a semiconduttore

Struttura a cilindro per reattore epitassiale a semiconduttore

Grazie alle sue eccezionali proprietà di conduttività termica e distribuzione del calore, la struttura a cilindro Semicorex per reattore epitassiale a semiconduttore è la scelta perfetta per l'uso nei processi LPE e in altre applicazioni di produzione di semiconduttori. Il rivestimento SiC ad elevata purezza fornisce una protezione superiore in ambienti corrosivi e ad alta temperatura.

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Suscettore a barilotto in grafite rivestito in SiC

Suscettore a barilotto in grafite rivestito in SiC

Se stai cercando un suscettore in grafite ad alte prestazioni da utilizzare in applicazioni di produzione di semiconduttori, il suscettore a barilotto in grafite rivestito SiC Semicorex è la scelta ideale. Le sue eccezionali proprietà di conduttività termica e distribuzione del calore lo rendono la scelta ideale per prestazioni affidabili e costanti in ambienti corrosivi e ad alta temperatura.

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Suscettore di crescita dei cristalli rivestito in SiC

Suscettore di crescita dei cristalli rivestito in SiC

Grazie all'elevato punto di fusione, alla resistenza all'ossidazione e alla corrosione, il suscettore di crescita dei cristalli rivestito in SiC Semicorex è la scelta ideale per l'uso in applicazioni di crescita di cristalli singoli. Il suo rivestimento in carburo di silicio offre eccellenti proprietà di planarità e distribuzione del calore, rendendolo la scelta ideale per ambienti ad alta temperatura.

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