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Prodotti
Semicorex è un produttore e fornitore professionale in Cina. La nostra fabbrica fornisce suscettore a botte, suscettore mocvd, barca wafer, ecc. Design estremo, materie prime di qualità, prestazioni elevate e prezzo competitivo sono ciò che ogni cliente desidera, ed è anche ciò che possiamo offrirti. Prendiamo l'alta qualità, il prezzo ragionevole e il servizio perfetto.
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Componente ICP rivestito in SiC
Il componente ICP rivestito in SiC di Semicorex è progettato specificamente per processi di gestione di wafer ad alta temperatura come epitassia e MOCVD. Con un sottile rivestimento in cristalli SiC, i nostri supporti forniscono una resistenza al calore superiore, un'uniformità termica uniforme e una resistenza chimica duratura.
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Rivestimento SiC ad alta temperatura per camere di attacco al plasma
Quando si tratta di processi di gestione dei wafer come epitassia e MOCVD, il rivestimento SiC ad alta temperatura di Semicorex per camere di incisione al plasma è la scelta migliore. I nostri supporti garantiscono una resistenza al calore superiore, un'uniformità termica uniforme e una resistenza chimica duratura grazie al nostro sottile rivestimento in cristalli SiC.
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Vassoio per incisione al plasma ICP
Il vassoio per incisione al plasma ICP di Semicorex è progettato specificamente per processi di gestione dei wafer ad alta temperatura come epitassia e MOCVD. Con una resistenza all'ossidazione stabile e alle alte temperature fino a 1600°C, i nostri carrier forniscono profili termici uniformi, schemi di flusso di gas laminare e prevengono la contaminazione o la diffusione di impurità.
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Sistema di incisione al plasma ICP
Il supporto rivestito in SiC di Semicorex per il sistema di incisione al plasma ICP è una soluzione affidabile ed economica per processi di gestione dei wafer ad alta temperatura come epitassia e MOCVD. I nostri supporti sono dotati di un sottile rivestimento in cristalli SiC che fornisce resistenza al calore superiore, uniformità termica uniforme e resistenza chimica duratura.
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Plasma accoppiato induttivamente (ICP)
Il suscettore rivestito in carburo di silicio di Semicorex per plasma accoppiato induttivamente (ICP) è progettato specificamente per processi di gestione di wafer ad alta temperatura come epitassia e MOCVD. Con una resistenza all'ossidazione stabile e alle alte temperature fino a 1600°C, i nostri supporti garantiscono profili termici uniformi, schemi di flusso di gas laminare e prevengono la contaminazione o la diffusione di impurità.
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Porta wafer per incisione ICP
Il supporto per wafer di incisione ICP di Semicorex è la soluzione perfetta per i processi di gestione dei wafer ad alta temperatura come epitassia e MOCVD. Con una resistenza all'ossidazione stabile e alle alte temperature fino a 1600°C, i nostri supporti garantiscono profili termici uniformi, schemi di flusso di gas laminare e prevengono la contaminazione o la diffusione di impurità.
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