- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Prodotti
- View as
Grafite rivestita in carbonio silicio ICP
La grafite rivestita in carbonio siliconico ICP di Semicorex è la scelta ideale per i processi impegnativi di gestione dei wafer e di deposizione di film sottile. Il nostro prodotto vanta una resistenza superiore al calore e alla corrosione, un'uniformità termica uniforme e schemi di flusso di gas laminare ottimali.
Per saperne di piùInvia richiesta
Sistema di incisione al plasma ICP per il processo PSS
Scegli il sistema di incisione al plasma ICP di Semicorex per il processo PSS per processi epitassia e MOCVD di alta qualità. Il nostro prodotto è progettato specificatamente per questi processi e offre una resistenza superiore al calore e alla corrosione. Con una superficie pulita e liscia, il nostro supporto è perfetto per la movimentazione di wafer incontaminati.
Per saperne di piùInvia richiesta
Piastra per incisione al plasma ICP
La piastra di incisione al plasma ICP di Semicorex fornisce una resistenza superiore al calore e alla corrosione per la manipolazione dei wafer e i processi di deposizione di film sottili. Il nostro prodotto è progettato per resistere alle alte temperature e alla pulizia chimica aggressiva, garantendo durata e longevità. Con una superficie pulita e liscia, il nostro supporto è perfetto per la movimentazione di wafer incontaminati.
Per saperne di piùInvia richiesta
Supporto per incisione ICP in carburo di silicio
Cerchi un supporto wafer affidabile per i processi di incisione? Non cercare oltre il supporto per incisione ICP in carburo di silicio di Semicorex. Il nostro prodotto è progettato per resistere alle alte temperature e alla pulizia chimica aggressiva, garantendo durata e longevità. Con una superficie pulita e liscia, il nostro supporto è perfetto per la movimentazione di wafer incontaminati.
Per saperne di piùInvia richiesta
Piastra SiC per processo di incisione ICP
La piastra SiC di Semicorex per il processo di incisione ICP è la soluzione perfetta per requisiti di lavorazione chimica aggressiva e ad alta temperatura nella deposizione di film sottile e nella gestione dei wafer. Il nostro prodotto vanta una resistenza al calore superiore e un'uniformità termica uniforme, garantendo spessore e resistenza costanti dello strato epi. Con una superficie pulita e liscia, il nostro rivestimento in cristallo SiC ad elevata purezza offre una gestione ottimale dei wafer incontaminati.
Per saperne di piùInvia richiesta
Supporto per incisione ICP rivestito in SiC
Supporto per incisione ICP rivestito in SiC Semicorex progettato specificamente per apparecchiature epitassia con elevata resistenza al calore e alla corrosione in Cina. I nostri prodotti hanno un buon vantaggio di prezzo e coprono molti mercati europei e americani. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.
Per saperne di piùInvia richiesta
