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Suscettore in grafite rivestito in SiC CVD

Suscettore in grafite rivestito in SiC CVD

Semicorex CVD SiC Coated Graphite Susceptor, è uno strumento specializzato utilizzato nella manipolazione e lavorazione di wafer semiconduttori. Il suscettore svolge un ruolo cruciale nel facilitare la crescita di film sottili, strati epitassiali e altri rivestimenti su substrati con un controllo preciso sulla temperatura e sulle proprietà del materiale. Semicorex si impegna a fornire prodotti di qualità a prezzi competitivi, non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

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Descrizione del prodotto

Il suscettore in grafite rivestito SiC CVD è un componente meticolosamente progettato per creare un ambiente termico ottimale per la deposizione controllata di pellicole sottili e rivestimenti su wafer semiconduttori o altri materiali di substrato. Si tratta di un elemento critico all'interno di un reattore CVD, poiché funge sia da fonte di calore che da piattaforma per trattenere e posizionare i substrati durante il processo di deposizione.


Vantaggi:

Deposizione precisa: il suscettore in grafite rivestito in SiC CVD consente la deposizione controllata e precisa di pellicole e rivestimenti sottili, garantendo risultati riproducibili e di alta qualità.

Contaminazione ridotta: il rivestimento SiC riduce al minimo il rischio di contaminazione da parte del suscettore stesso, garantendo la purezza dei materiali depositati.

Longevità e durata: il rivestimento SiC migliora la resistenza del suscettore all'ossidazione e alle reazioni chimiche, contribuendo alla sua longevità e affidabilità nell'uso prolungato.




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