Il rivestimento SiC è uno strato sottile sul suscettore attraverso il processo di deposizione chimica in fase vapore (CVD). Il materiale in carburo di silicio offre numerosi vantaggi rispetto al silicio, tra cui 10 volte l'intensità del campo elettrico di rottura, 3 volte l'intervallo di banda, che fornisce al materiale resistenza alle alte temperature e agli agenti chimici, eccellente resistenza all'usura e conduttività termica.
Semicorex fornisce un servizio personalizzato, ti aiuta a innovare con componenti che durano più a lungo, riducono i tempi di ciclo e migliorano i rendimenti.
Il rivestimento SiC possiede diversi vantaggi unici
Resistenza alle alte temperature: il suscettore rivestito in SiC CVD può resistere a temperature elevate fino a 1600°C senza subire un significativo degrado termico.
Resistenza chimica: il rivestimento in carburo di silicio offre un'eccellente resistenza a un'ampia gamma di sostanze chimiche, inclusi acidi, alcali e solventi organici.
Resistenza all'usura: il rivestimento SiC fornisce al materiale un'eccellente resistenza all'usura, rendendolo adatto per applicazioni che comportano un'elevata usura.
Conduttività termica: il rivestimento CVD SiC fornisce al materiale un'elevata conduttività termica, rendendolo adatto all'uso in applicazioni ad alta temperatura che richiedono un efficiente trasferimento di calore.
Elevata resistenza e rigidità: il suscettore rivestito in carburo di silicio fornisce al materiale elevata resistenza e rigidità, rendendolo adatto per applicazioni che richiedono elevata resistenza meccanica.
Il rivestimento SiC viene utilizzato in varie applicazioni
Produzione di LED: il suscettore rivestito in SiC CVD viene utilizzato nella produzione di vari tipi di LED, inclusi LED blu e verdi, LED UV e LED UV profondo, grazie alla sua elevata conduttività termica e resistenza chimica.
Comunicazione mobile: il suscettore rivestito in SiC CVD è una parte cruciale dell'HEMT per completare il processo epitassiale GaN-on-SiC.
Lavorazione dei semiconduttori: il suscettore rivestito in SiC CVD viene utilizzato nell'industria dei semiconduttori per varie applicazioni, tra cui la lavorazione dei wafer e la crescita epitassiale.
Componenti in grafite rivestita in SiC
Realizzato in grafite con rivestimento in carburo di silicio (SiC), il rivestimento viene applicato con un metodo CVD a gradi specifici di grafite ad alta densità, in modo che possa funzionare nel forno ad alta temperatura con oltre 3000 °C in atmosfera inerte, 2200 °C sotto vuoto .
Le proprietà speciali e la massa ridotta del materiale consentono velocità di riscaldamento elevate, distribuzione uniforme della temperatura e straordinaria precisione di controllo.
Dati sui materiali del rivestimento Semicorex SiC
Proprietà tipiche |
Unità |
Valori |
Struttura |
|
Fase β dell'FCC |
Orientamento |
Frazione (%) |
111 preferito |
Densità apparente |
g/cm³ |
3.21 |
Durezza |
Durezza Vickers |
2500 |
Capacità termica |
J kg-1 K-1 |
640 |
Espansione termica 100–600 °C (212–1112 °F) |
10-6K-1 |
4.5 |
Modulo di Young |
Gpa (curvatura 4 punti, 1300 ℃) |
430 |
Granulometria |
µm |
2~10 |
Temperatura di sublimazione |
℃ |
2700 |
Forza flessionale |
MPa (RT 4 punti) |
415 |
Conduttività termica |
(W/mK) |
300 |
Conclusione Il suscettore rivestito in SiC CVD è un materiale composito che combina le proprietà di un suscettore e di carburo di silicio. Questo materiale possiede proprietà uniche, tra cui resistenza alle alte temperature e agli agenti chimici, eccellente resistenza all'usura, elevata conduttività termica ed elevata resistenza e rigidità. Queste proprietà lo rendono un materiale interessante per varie applicazioni ad alta temperatura, tra cui la lavorazione dei semiconduttori, la lavorazione chimica, il trattamento termico, la produzione di celle solari e la produzione di LED.
Il supporto per wafer di incisione ICP di Semicorex è la soluzione perfetta per i processi di gestione dei wafer ad alta temperatura come epitassia e MOCVD. Con una resistenza all'ossidazione stabile e alle alte temperature fino a 1600°C, i nostri supporti garantiscono profili termici uniformi, schemi di flusso di gas laminare e prevengono la contaminazione o la diffusione di impurità.
Per saperne di piùInvia richiestaLa piastra portante per incisione ICP di Semicorex è la soluzione perfetta per i processi più impegnativi di gestione dei wafer e di deposizione di film sottile. Il nostro prodotto offre resistenza superiore al calore e alla corrosione, uniformità termica e modelli di flusso di gas laminare. Con una superficie pulita e liscia, il nostro supporto è perfetto per la movimentazione di wafer incontaminati.
Per saperne di piùInvia richiestaIl supporto per wafer di Semicorex per il processo di incisione ICP è la scelta perfetta per la gestione impegnativa dei wafer e i processi di deposizione di film sottile. Il nostro prodotto vanta una resistenza superiore al calore e alla corrosione, un'uniformità termica uniforme e schemi di flusso di gas laminare ottimali per risultati coerenti e affidabili.
Per saperne di piùInvia richiestaLa grafite rivestita in carbonio siliconico ICP di Semicorex è la scelta ideale per i processi impegnativi di gestione dei wafer e di deposizione di film sottile. Il nostro prodotto vanta una resistenza superiore al calore e alla corrosione, un'uniformità termica uniforme e schemi di flusso di gas laminare ottimali.
Per saperne di piùInvia richiestaScegli il sistema di incisione al plasma ICP di Semicorex per il processo PSS per processi epitassia e MOCVD di alta qualità. Il nostro prodotto è progettato specificatamente per questi processi e offre una resistenza superiore al calore e alla corrosione. Con una superficie pulita e liscia, il nostro supporto è perfetto per la movimentazione di wafer incontaminati.
Per saperne di piùInvia richiestaLa piastra di incisione al plasma ICP di Semicorex fornisce una resistenza superiore al calore e alla corrosione per la manipolazione dei wafer e i processi di deposizione di film sottili. Il nostro prodotto è progettato per resistere alle alte temperature e alla pulizia chimica aggressiva, garantendo durata e longevità. Con una superficie pulita e liscia, il nostro supporto è perfetto per la movimentazione di wafer incontaminati.
Per saperne di piùInvia richiesta