Tubi di processo SiC

I tubi di processo Semicorex SiC sono componenti strutturali importanti nei processi di ossidazione, diffusione, RTA/RTP nel processo di produzione dei semiconduttori. Generalmente si tratta di un tubo di grande diametro come spazio del forno del reattore, all'interno del quale si svolgeranno tutti i processi chimici. Quindi la robustezza e la resistenza allo shock termico sono entrambi punti fondamentali per il prodotto.

I tubi di processo SiC sono realizzati daCarburo di silicio sinterizzato, può essere SiSiC, SSiC o RSiC e il rivestimento CVD SiC sulla superficie, che formerà uno strato di purezza ultraelevata. Può prevenire l'inquinamento da particelle, ceneri, ecc. Inoltre, il materiale ha un'elevata resistenza agli shock termici, quindi i tubi di processo SiC possono rimanere stabili nella resistenza alle alte temperature e impedire che le impurità precipitino ad alte temperature e quindi inquinino l'ambiente.

Questi tubi di processo SiC sono progettati per l'uso in atmosfere con gas reattivo (ossigeno), gas di protezione (azoto) e quantità minime di gas di acido cloridrico e offrono eccezionale resistenza chimica, stabilità termica e purezza del materiale fino a 1250°C. I tubi di processo Semicorex SiC combinano la produzione di stampa 3D all'avanguardia con il rivestimento CVD (Chemical Vapor Deposition) per fornire prestazioni e durata superiori nelle condizioni termiche e chimiche più estreme.

I tubi di processo Semicorex SiC sono prodotti tramite un processo di stampaggio integrato con stampa 3D anziché un tubo convenzionale formato a pressione o assemblato. Questo processo di produzione consente una struttura continua e coerente della ceramica senza giunture e aree deboli, creando un elevato grado di complessità e fedeltà dimensionale, che può alleviare le concentrazioni di stress migliorando al tempo stesso la resistenza meccanica. Inoltre, la struttura monolitica fornisce una tenuta a tenuta di gas naturale, riducendo la contaminazione e le perdite durante i processi ad alta temperatura.

ILSiCdel corpo è un materiale a bassissimo contenuto di impurità (< 300 ppm), che garantisce eccellente purezza e stabilità del materiale per atmosfere reattive. Inoltre, il tubo è rivestito con uno strato di carburo di silicio CVD (< 5 ppm) per migliorare la resistenza alla corrosione e la protezione della superficie.

Semicorex fornisce il servizio personalizzato, possiamo produrre secondo i disegni dei clienti, per soddisfare i requisiti delle specifiche richieste. Pertanto i tubi di processo Semicorex SiC possono essere adatti non solo per forni orizzontali, ma anche per forni verticali.