Tubi del forno per LPCVD

Il processo LPCVD è un processo di deposizione di film sottile effettuato in condizioni di vuoto a bassa pressione (tipicamente compresa tra 0,1 e 1 Torr). Queste condizioni operative di vuoto a bassa pressione possono aiutare a promuovere la diffusione uniforme dei gas precursori sulla superficie del wafer, rendendolo ideale per la deposizione precisa di materiali tra cui Si₃N₄, poli-Si, SiO₂, PSG e alcuni film metallici come il tungsteno.

Tubi del fornosono i componenti essenziali per LPCVD, che fungono da camere di creazione stabili per la lavorazione LPCVD dei wafer e contribuiscono all'eccezionale uniformità della pellicola, all'eccezionale copertura dei gradini e all'elevata qualità della pellicola dei wafer semiconduttori.

I vantaggi dei tubi da forno Semicorex per LPCVD

1. Prestazioni di tenuta affidabili

I tubi del forno Semicorex per LPCVD sono prodotti utilizzando la tecnologia di stampa 3D, caratterizzati da una struttura integrale e senza giunture. Questa struttura integrale priva di punti deboli evita i rischi di giunzioni e perdite associati ai tradizionali processi di saldatura o assemblaggio, garantendo una migliore tenuta del processo.  I tubi del forno Semicorex per LPCVD sono particolarmente adatti per i processi LPCVD a bassa pressione e alta temperatura, che possono evitare in modo significativo perdite di gas di processo e intrusioni di aria esterna.

2.Eccellenti proprietà termiche

Realizzati con materie prime di alta qualità per semiconduttori, i tubi del forno Semicorex per LPCVD sono caratterizzati da un'elevata conduttività termica e da un'eccellente resistenza agli shock termici. Queste eccezionali proprietà termiche fanno sì che i tubi del forno Semicorex per LPCVD funzionino stabilmente a temperature comprese tra 600 e 1100°C e forniscano una distribuzione uniforme della temperatura per la lavorazione termica dei wafer di alta qualità.

3. Controllo rigoroso della pulizia

Semicorex controlla la pulizia dei tubi dei forni già nella fase di selezione dei materiali. L'uso di materie prime di elevata purezza garantisce ai tubi del forno Semicorex per LPCVD un basso contenuto di impurità senza pari. Il livello di impurità del materiale della matrice è controllato al di sotto di 100 PPM e il materiale di rivestimento SiC CVD è mantenuto al di sotto di 1 PPM. Inoltre, ogni tubo del forno viene sottoposto a rigorosi controlli di pulizia prima della consegna per prevenire la contaminazione da impurità durante il processo LPCVD.

4. Protezione del rivestimento uniforme e densa

Attraverso la deposizione chimica del vapore, i tubi del forno Semicorex per LPCVD sono saldamente ricoperti da un rivestimento SiC denso e uniforme. QuestiRivestimenti SiC CVDmostrano una forte adesione, che previene efficacemente i rischi di distacco del rivestimento e degrado dei componenti anche se esposti a condizioni corrosive e di alta temperatura.