Tubi per forni rivestiti in SiC CVD

Semicorex CVD rivestito in SiCtubi del fornosono tubi di processo di grande diametro che forniscono una camera di reazione stabile per il trattamento ad alta temperatura del wafer semiconduttore. Sono progettati per funzionare in atmosfere contenenti ossigeno (gas reagente), azoto (gas protettivo) e piccole quantità di acido cloridrico, con una temperatura operativa stabile di circa 1250 gradi Celsius.

Il vantaggio dei tubi per forni semicorex CVD rivestiti in SiC

1. Tecnologia di stampaggio avanzata e produzione di personalizzazione flessibile

Formato tramite la tecnologia di stampa 3D, SemicorexCVD SiCI tubi del forno rivestiti presentano una struttura ceramica integrale e senza giunzioni, senza aree deboli. Questa tecnologia di stampaggio garantisce un'eccezionale tenuta ai gas, che previene efficacemente i contaminanti esterni e mantiene la temperatura, la pressione e gli ambienti atmosferici richiesti per la lavorazione dei wafer semiconduttori.

Inoltre, la tecnologia di stampa 3D supporta anche la produzione di forme complesse e il controllo dimensionale preciso. La produzione personalizzata è disponibile per diametro, lunghezza, spessore della parete e tolleranze in base a vari requisiti per garantire la piena compatibilità con i forni verticali o orizzontali dei clienti.

2. Selezione meticolosa dei materiali e controllo della pulizia

I tubi del forno Semicorex CVD rivestiti in SiC sono fabbricati con materiali ad elevata purezza di grado semiconduttore accuratamente selezionati. Il contenuto di impurità della matrice è controllato a meno di 300 PPM e il contenuto di impurità del rivestimento CVD SiC è limitato a meno di 5 PPM. Questo rigoroso controllo della purezza riduce significativamente la contaminazione dei wafer causata dalla precipitazione delle impurità metalliche in condizioni operative ad alta temperatura, migliorando notevolmente la resa e le prestazioni dei dispositivi semiconduttori finali. Inoltre, l'uso del rivestimento CVD SiC migliora la resistenza alle alte temperature, la resistenza alla corrosione chimica e la stabilità termica dei tubi del forno Semicorex CVD SiC rivestiti, prolungandone notevolmente la durata in condizioni operative difficili.

Vantando così tanti vantaggi, i tubi del forno Semicorex CVD rivestiti in SiC sono in grado di fornire uno spazio di reazione stabile, adatto e ultra pulito per la lavorazione dei wafer semiconduttori. La distribuzione uniforme della temperatura e l'atmosfera stabile del gas all'interno dei forni, rese possibili dai tubi del forno semicorex CVD rivestiti in SiC, aiutano a ottenere una diffusione del drogaggio, un'ossidazione termica, una ricottura e una deposizione di film sottile più accurate.