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Supporto per wafer per incisione ICP

Il porta wafer per incisione ICP di Semicorex è la soluzione perfetta per i processi di manipolazione dei wafer ad alta temperatura come epitassia e MOCVD. Con una resistenza all'ossidazione stabile e ad alta temperatura fino a 1600°C, i nostri supporti assicurano profili termici uniformi, schemi di flusso laminare del gas e prevengono la contaminazione o la diffusione di impurità.

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Vuoi acquistare Silicon-Carbide-Coated-Graphite-Susceptor avanzati e durevoli? Semicorex è sicuramente la tua buona scelta. Siamo conosciuti come uno dei produttori e fornitori Silicon-Carbide-Coated-Graphite-Susceptor più competitivi in Cina. Forniamo anche imballaggi sfusi. Potresti aver bisogno di alcuni servizi personalizzati per soddisfare le effettive esigenze della tua regione, puoi lasciarci un messaggio attraverso le informazioni di contatto sulla pagina web. Diamo il benvenuto sinceramente ai clienti vecchi e nuovi a visitare la nostra fabbrica per la consultazione e la negoziazione.