Il vassoio per incisione al plasma ICP di Semicorex è progettato specificamente per processi di manipolazione di wafer ad alta temperatura come epitassia e MOCVD. Con una resistenza all'ossidazione stabile e ad alta temperatura fino a 1600°C, i nostri supporti forniscono profili termici uniformi, schemi di flusso laminare del gas e prevengono la contaminazione o la diffusione di impurità.
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