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Supporto rivestito in SiC RTP RTA

Semicorex è un produttore e fornitore su larga scala di suscettore di grafite rivestito in carburo di silicio in Cina. Suscettore in grafite Semicorex progettato specificamente per apparecchiature epitassia con elevata resistenza al calore e alla corrosione in Cina. Il nostro supporto rivestito in SiC RTP RTA ha un buon vantaggio in termini di prezzo e copre molti mercati europei e americani. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine.

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Portante RTP per crescita epitassiale MOCVD

Il semicorex RTP Carrier per la crescita epitassiale MOCVD è ideale per le applicazioni di elaborazione dei wafer a semiconduttore, inclusa la crescita epitassiale e l'elaborazione della gestione dei wafer. I suscettori in grafite di carbonio e i crogioli in quarzo vengono lavorati da MOCVD sulla superficie di grafite, ceramica, ecc. I nostri prodotti hanno un buon vantaggio in termini di prezzo e coprono molti mercati europei e americani. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

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Porta wafer per incisione ICP

Il supporto per wafer di incisione ICP di Semicorex è la soluzione perfetta per i processi di gestione dei wafer ad alta temperatura come epitassia e MOCVD. Con una resistenza all'ossidazione stabile e alle alte temperature fino a 1600°C, i nostri supporti garantiscono profili termici uniformi, schemi di flusso di gas laminare e prevengono la contaminazione o la diffusione di impurità.

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Piastra portante per incisione ICP

La piastra portante per incisione ICP di Semicorex è la soluzione perfetta per i processi più impegnativi di gestione dei wafer e di deposizione di film sottile. Il nostro prodotto offre resistenza superiore al calore e alla corrosione, uniformità termica e modelli di flusso di gas laminare. Con una superficie pulita e liscia, il nostro supporto è perfetto per la movimentazione di wafer incontaminati.

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Vassoio portante per incisione PSS per la lavorazione dei wafer

Il vassoio portante per incisione PSS di Semicorex per la lavorazione dei wafer è progettato specificamente per le applicazioni impegnative di apparecchiature per epitassia. Il nostro supporto in grafite ultrapura è ideale per fasi di deposizione di film sottili come MOCVD, suscettori epitassia, piattaforme pancake o satellitari e processi di gestione dei wafer come l'incisione. Il vassoio portante per incisione PSS per la lavorazione dei wafer presenta un'elevata resistenza al calore e alla corrosione, eccellenti proprietà di distribuzione del calore e un'elevata conduttività termica. I nostri prodotti sono convenienti e hanno un buon vantaggio di prezzo. Ci rivolgiamo a molti mercati europei e americani e non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

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Vassoio portante per incisione PSS per LED

Noi di Semicorex abbiamo progettato il vassoio portante per incisione PSS per LED appositamente per gli ambienti difficili richiesti per la crescita epitassiale e i processi di gestione dei wafer. Il nostro supporto in grafite ultrapura è ideale per fasi di deposizione di film sottili come MOCVD, suscettori epitassia, piattaforme pancake o satellitari e processi di gestione dei wafer come l'incisione. Il supporto rivestito in SiC ha un'elevata resistenza al calore e alla corrosione, eccellenti proprietà di distribuzione del calore e un'elevata conduttività termica. Il nostro vassoio portante per incisione PSS per LED è conveniente e offre un buon vantaggio in termini di prezzo. Ci rivolgiamo a molti mercati europei e americani e non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo term......

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