L'elemento industriale di riscaldamento in grafite Semicorex è una delle parti più importanti dei forni di sinterizzazione sotto vuoto ad alta temperatura. È essenziale per una varietà di processi termici grazie alle sofisticate qualità dei materiali.
Per saperne di piùInvia richiestaSemicorex Porous Ceramic Chuck (Vacuum Chuck) è uno strumento ad alta precisione progettato per trattenere in modo sicuro i wafer durante i processi di produzione dei semiconduttori. Scegliendo Semicorex, beneficerai di una soluzione che offre prestazioni eccezionali, durata e opzioni di personalizzazione, garantendo una maggiore efficienza produttiva e standard di qualità costanti.*
Per saperne di piùInvia richiestaI mandrini sottovuoto in allumina Semicorex sono componenti di precisione progettati per trattenere in modo sicuro wafer o substrati durante processi critici di produzione di semiconduttori e di precisione. Grazie all'impegno di Semicorex verso materiali di alta qualità e tecniche di produzione all'avanguardia, i nostri mandrini sottovuoto in allumina forniscono affidabilità, precisione e prestazioni senza pari per le applicazioni più impegnative.*
Per saperne di piùInvia richiestaSemicorex Vacuum Chuck è un componente ad alte prestazioni progettato per la movimentazione sicura e precisa dei wafer nella produzione di semiconduttori. Scegli Semicorex per le nostre soluzioni avanzate, durevoli e resistenti alla contaminazione che garantiscono prestazioni ottimali anche nei processi più impegnativi.*
Per saperne di piùInvia richiestaL'anello Semicorex RTP è un anello in grafite rivestito in SiC progettato per applicazioni ad alte prestazioni nei sistemi RTP (Rapid Thermal Processing). Scegli Semicorex per la nostra tecnologia avanzata dei materiali, che garantisce durata, precisione e affidabilità superiori nella produzione di semiconduttori.*
Per saperne di piùInvia richiestaLa cassetta per wafer orizzontali Semicorex è uno strumento essenziale nel settore della produzione di semiconduttori, offrendo vantaggi significativi nella protezione dei wafer, nel controllo della contaminazione e nell'efficienza di elaborazione.
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