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Riscaldatori compositi in ceramica

I riscaldatori compositi in ceramica Semicorex offrono prestazioni di riscaldamento ad alta efficienza ultra pulite per le applicazioni ad alta temperatura. Scegli Semicorex per la purezza del materiale leader del settore, l'ingegneria di precisione e la personalizzazione affidabile sostenuta da anni di competenza nelle tecnologie ceramiche avanzate.*

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Riscaldatore PBN

Il riscaldatore PBN Semicorex offre prestazioni ultra-pulite e ad alta temperatura ideali per semiconduttori, crescita dei cristalli e applicazioni a vuoto. Scegli Semicorex per la purezza del materiale senza eguali, la precisione ingegneristica e la consegna affidabile fidati dai principali produttori globali.*

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Barche ceramiche sic

Le barche in ceramica SIC Semicorex forniscono la combinazione ottimale di purezza, resistenza, resistenza termica e accuratezza dimensionale richiesta per le rigorose esigenze della moderna elaborazione del wafer a semiconduttore. *

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Anelli per bordi

Gli anelli di semirex bordo sono affidabili dai principali FAB e OEM di semiconduttore in tutto il mondo. Con un controllo di qualità rigoroso, processi di produzione avanzati e progettazione basata sull'applicazione, Semicorex fornisce soluzioni che prolungano la durata dello strumento, ottimizzano l'uniformità del wafer e supportano i nodi di processo avanzati.*

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SIC Robot Hands

Le mani di robot di semicorex sono ad alta precisione e ultra-pulite progettati per trasferimento di wafer sicuro e affidabile nella produzione di semiconduttori. Scopri Semicorex per competenze leader del settore in ceramica avanzata, offrendo prestazioni superiori, purezza e personalizzazione fidati dei migliori favolosi FAB Worldwide.*

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Anello di bordo sic

L'anello a bordo SiC SIC Semicorex è un componente rivolto al plasma ad alte prestazioni progettato per migliorare l'uniformità di attacco e proteggere i bordi del wafer nella produzione di semiconduttori. Scegli Semicorex per la purezza del materiale senza eguali, l'ingegneria di precisione e la comprovata affidabilità negli ambienti di processo al plasma avanzati.*

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