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Prodotti
Semicorex è un produttore e fornitore professionale in Cina. La nostra fabbrica fornisce suscettore a botte, suscettore mocvd, barca wafer, ecc. Design estremo, materie prime di qualità, prestazioni elevate e prezzo competitivo sono ciò che ogni cliente desidera, ed è anche ciò che possiamo offrirti. Prendiamo l'alta qualità, il prezzo ragionevole e il servizio perfetto.
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Barca di allumina
Alumina Boat di Semicorex trova la sua nicchia nell'industria dei semiconduttori, nei macchinari generali e nei processi ad alta temperatura, rivelandosi indispensabile per i professionisti che cercano affidabilità e precisione.
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Piatto in ceramica SiC
La piastra in ceramica SiC Semicorex offre prestazioni senza pari in ambienti che richiedono resistenza all'usura, resistenza alla corrosione e stabilità alle alte temperature. Questo prodotto è progettato per l'uso come piastre di rivestimento e parti di supporto in una varietà di applicazioni impegnative.
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Vassoio in carburo di silicio
Il vassoio in carburo di silicio Semicorex è costruito per resistere a condizioni estreme garantendo prestazioni notevoli. Svolge un ruolo cruciale nel processo di attacco ICP, nella diffusione dei semiconduttori e nel processo epitassiale MOCVD.
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Disco ceramico AlN
Il disco ceramico Semicorex AlN si distingue come un materiale dalle capacità eccezionali, apprezzato per la sua combinazione unica di proprietà termiche, meccaniche ed elettriche. Noi di Semicorex siamo in prima linea nella produzione di dischi ceramici AlN, garantendo che questi componenti soddisfino i severi requisiti della tecnologia moderna e delle applicazioni industriali.**
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Manicotto Si3N4
La manica Si3N4 di Semicorex è un materiale versatile e ad alte prestazioni che offre una combinazione unica di bassa densità, durezza superiore, eccellente resistenza all'usura ed eccezionale stabilità termica e chimica.**
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Mandrino sottovuoto in ceramica porosa
La funzione principale del mandrino sottovuoto in ceramica porosa Semicorex risiede nella sua capacità di fornire permeabilità uniforme all'aria e all'acqua, una caratteristica che garantisce la distribuzione uniforme dello stress e una robusta adesione dei wafer di silicio. Questa caratteristica è fondamentale durante il processo di macinazione, poiché impedisce al wafer di scivolare, preservando così l'integrità dell'operazione.**
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