2024-05-13
Attualmente, la maggior parte dei produttori di substrati di SiC utilizza un nuovo design del processo in campo termico del crogiolo con cilindri di grafite porosa: posizionando materie prime di particelle di SiC di elevata purezza tra la parete del crogiolo di grafite e il cilindro di grafite porosa, approfondendo l'intero crogiolo e aumentandone il diametro. Il vantaggio è che con l'aumento del volume di caricamento aumenta anche la superficie di evaporazione delle materie prime. Il nuovo processo risolve il problema dei difetti cristallini, causati dalla ricristallizzazione della parte superiore della materia prima mentre la crescita procede sulla superficie del materiale di partenza, influenzando il flusso del materiale di sublimazione. Il nuovo processo riduce inoltre la sensibilità della distribuzione della temperatura nell’area della materia prima alla crescita dei cristalli, migliora e stabilizza l’efficienza del trasferimento di massa, riduce l’impatto delle inclusioni di carbonio nelle fasi successive della crescita e migliora ulteriormente la qualità dei cristalli SiC. Il nuovo processo utilizza anche un metodo di fissaggio del supporto del cristallo senza semi che non si attacca al cristallo seme, consentendo la libera espansione termica e favorendo la riduzione dello stress. Questo nuovo processo ottimizza il campo termico e migliora notevolmente l'efficienza dell'espansione del diametro.
La qualità e la resa dei singoli cristalli di SiC ottenuti con questo nuovo processo dipendono fortemente dalle proprietà fisiche della grafite del crogiolo e della grafite porosa. L’urgente domanda di grafite porosa ad alte prestazioni non solo rende la grafite porosa estremamente costosa, ma provoca anche una grave carenza sul mercato.
Requisiti prestazionali di base digrafite porosa
(1) Distribuzione adeguata delle dimensioni dei pori;
(2) Porosità sufficientemente elevata;
(3) Resistenza meccanica che soddisfa i requisiti di lavorazione e utilizzo.
Semicorex offre alta qualitàgrafite porosaparti. Se hai domande o hai bisogno di ulteriori dettagli, non esitare a contattarci.
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