Mandrino per wafer Epi GaN-on-Si

Semicorex GaN-on-Si Epi Wafer Chuck è parte integrante della produzione di semiconduttori, consentendo un supporto stabile e affidabile durante processi critici come deposizione, incisione e litografia. GaN-on-Si Epi Wafer Chuck garantisce un'efficiente dissipazione del calore, mantenendo una distribuzione uniforme della temperatura sul wafer per evitare gradienti termici che potrebbero causare difetti. GaN-on-Si Epi Wafer Chuck è disponibile in varie dimensioni e configurazioni per soddisfare diverse dimensioni di wafer e requisiti di lavorazione, offrendo flessibilità per diverse esigenze di fabbricazione di semiconduttori.

Applicazioni:

Crescita epitassiale: Epi Wafer Chuck GaN-on-Si fornisce una piattaforma stabile per la crescita di strati GaN di alta qualità su substrati di silicio, Epi Wafer Chuck GaN-on-Si è essenziale per dispositivi elettronici e optoelettronici ad alte prestazioni.

Incisione e deposizione: facilita la rimozione o la deposizione uniforme del materiale, fondamentale per ottenere le proprietà strutturali ed elettriche desiderate dei dispositivi.

L'Epi Wafer Chuck GaN-on-Si è uno strumento indispensabile per i produttori di semiconduttori che mirano a produrre dispositivi all'avanguardia basati su GaN, offrendo prestazioni senza pari in termini di precisione, stabilità e durata.