il Semicorex Wafer Carrier per MOCVD, realizzato per le precise esigenze della deposizione di vapori chimici organici metallici (MOCVD), emerge come uno strumento indispensabile nella lavorazione di Si o SiC monocristallino per circuiti integrati su larga scala. La composizione del supporto wafer per MOCVD vanta purezza senza pari, resistenza a temperature elevate e ambienti corrosivi e proprietà di tenuta superiori per mantenere un'atmosfera incontaminata. Noi di Semicorex ci dedichiamo alla produzione e alla fornitura di portawafer ad alte prestazioni per MOCVD che fondono la qualità con l'efficienza dei costi.
Il Semicorex Wafer Carrier per la progettazione avanzata di MOCVD per applicazioni MOCVD funge da base sicura, sapientemente progettata per ospitare wafer semiconduttori. Offre un design ottimizzato che garantisce una presa salda sui wafer oltre a facilitare una distribuzione ottimale dei gas per una stratificazione uniforme del materiale. Migliorato con un rivestimento in carburo di silicio (SiC) tramite deposizione chimica da vapore (CVD), il wafer carrier per MOCVD combina la resilienza della grafite con le caratteristiche del SiC CVD di resistere alle alte temperature, possedere un coefficiente di espansione termica trascurabile e promuovere una dispersione del calore equalizzata. Questo equilibrio è fondamentale per preservare l’integrità della temperatura superficiale dei wafer.
Vantando caratteristiche quali l'inibizione della corrosione, la resilienza chimica e, di conseguenza, una durata operativa estesa, il Wafer Carrier per MOCVD aumenta significativamente sia il calibro che la resa dei wafer. La sua durabilità presenta un vantaggio economico diretto, posizionando il Wafer Carrier per MOCVD come una saggia scelta di approvvigionamento per le vostre operazioni di produzione di semiconduttori.
Progettato meticolosamente per le procedure epitassiali dei wafer, il Semicorex Wafer Carrier per MOCVD eccelle nel trasporto sicuro di wafer all'interno di forni ad alta temperatura. La sua struttura durevole garantisce che i wafer rimangano intatti, riducendo così la propensione ai danni durante le fasi critiche di crescita epitassiale.**