Vassoio per wafer SiC

Vassoio per wafer SiC

Il vassoio per wafer Semicorex SiC è una risorsa vitale nel processo MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition), meticolosamente progettato per supportare e riscaldare i wafer semiconduttori durante la fase essenziale della deposizione dello strato epitassiale. Questo vassoio è parte integrante della produzione di dispositivi a semiconduttore, dove la precisione della crescita degli strati è della massima importanza. Noi di Semicorex ci dedichiamo alla produzione e alla fornitura di vassoi per wafer SiC ad alte prestazioni che fondono la qualità con l'efficienza dei costi.

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Descrizione del prodotto

Il vassoio per wafer SiC Semicorex, che funziona come elemento chiave nell'apparato MOCVD, contiene e gestisce termicamente i substrati a cristallo singolo. Le sue eccezionali caratteristiche prestazionali, tra cui stabilità termica e uniformità superiori, nonché inibizione della corrosione e così via, sono cruciali per la crescita di alta qualità dei materiali epitassiali. Questi attributi garantiscono uniformità e purezza costanti negli strati di film sottile.


Migliorato con un rivestimento SiC, il vassoio per wafer SiC migliora significativamente la conduttività termica, facilitando una distribuzione rapida e uniforme del calore, fondamentale per una crescita epitassiale uniforme. La capacità del vassoio per wafer SiC di assorbire e irradiare in modo efficiente il calore mantiene una temperatura stabile e costante, essenziale per la deposizione precisa di pellicole sottili. Questa distribuzione uniforme della temperatura è fondamentale per la produzione di strati epitassiali di alta qualità, essenziali per le prestazioni dei dispositivi semiconduttori avanzati.


Le prestazioni affidabili e la longevità del vassoio per wafer SiC riducono la frequenza delle sostituzioni, minimizzando i tempi di inattività e i costi di manutenzione. La sua struttura robusta e le capacità operative superiori migliorano l'efficienza del processo, aumentando così la produttività e l'economicità nella produzione di semiconduttori.


Inoltre, il vassoio per wafer Semicorex SiC mostra un'eccellente resistenza all'ossidazione e alla corrosione alle alte temperature, garantendone ulteriormente la durata e l'affidabilità. La sua elevata resistenza termica, caratterizzata da un punto di fusione significativo, gli consente di resistere alle rigorose condizioni termiche inerenti ai processi di fabbricazione dei semiconduttori.



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