Filamento riscaldante SiC

Il filamento riscaldante Semicorex SiC, un elemento riscaldante ad alto vuoto sviluppato per la lavorazione dei wafer nella nuova fabbricazione di semiconduttori, è un elemento riscaldante innovativo progettato con unnucleo di grafitee di elevata purezzarivestimento in carburo di silicio. Lo speciale filamento sfrutta la conduttività termica della grafite e la durabilità e la protezione del SiC, risultando in un riscaldatore stabile ed efficiente dal punto di vista energetico nel tempo. Il filamento riscaldante SiC è progettato per riscaldare i wafer in modo uniforme e raggiungere le specifiche, rendendolo un componente eccellente per la lavorazione dei semiconduttori ad alta temperatura, come l'epitassia, la diffusione e la ricottura.

Il filamento riscaldante SiC è realizzato con grafite di elevata purezza grazie alle proprietà termiche e alle proprietà elettriche di qualità della grafite. La grafite fornisce la funzione di riscaldamento principale consentendo una risposta rapida e un riscaldamento efficiente sotto carico elettrico. Il denso rivestimento SiC ad alta purezza protegge il filamento da possibili fonti di contaminazione. Il rivestimento SiC protegge il wafer dalla contaminazione chimica e dall'ossidazione, nonché dalle particelle nella camera, prolunga la vita utile del filamento e crea un ambiente della camera pulito.

Una qualità chiave del filamento riscaldante SiC è la capacità di fornire un riscaldamento uniforme del wafer. Le variazioni di temperatura attraverso il wafer possono portare a difetti o perdita di rendimento. Il filamento riscaldante SiC ha un'eccellente conduttività termica e il design solido del filamento garantisce che il calore sia stabile e più uniforme, limitando i gradienti termici per un controllo assoluto del processo.

Il filamento riscaldante SiC è personalizzabile, il valore di resistenza elettrica di ciascun filamento può essere personalizzato per lo strumento di processo e l'ambiente operativo. Questa personalizzazione consente alla tecnologia del carburo di silicio di controllare il valore di resistenza della geometria del filamento, dello spessore del rivestimento e delle proprietà del materiale. Un filamento riscaldante SiC può adattarsi a molti modelli di forni diversi con dimensioni di wafer e ricette di processo diverse. Ciò è particolarmente vantaggioso per i produttori di semiconduttori, poiché consente ai processi attuali di funzionare in modo più efficiente e mantiene la compatibilità con i sistemi già in atto.  La terza caratteristica delle prestazioni è la durabilità. Nei processi con semiconduttori ad alta temperatura, l'elemento riscaldante è esposto ad ambienti chimici molto aggressivi e a ripetuti cicli termici.

Le applicazioni del filamento riscaldante Semicorex SiC coprono una vasta gamma di processi di fabbricazione di dispositivi a semiconduttore. Durante la crescita epitassiale, ad esempio, l'elemento riscaldante fornisce una temperatura del substrato stabile e uniforme per depositare pellicole cristalline di alta qualità.