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Sistema di incisione al plasma ICP per processo PSS

Scegliete il sistema di incisione al plasma ICP di Semicorex per il processo PSS per processi di epitassia e MOCVD di alta qualità. Il nostro prodotto è progettato specificamente per questi processi, offrendo una resistenza superiore al calore e alla corrosione. Con una superficie pulita e liscia, il nostro supporto è perfetto per maneggiare wafer incontaminati.

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Vuoi acquistare Sio2-Dry-Etching avanzati e durevoli? Semicorex è sicuramente la tua buona scelta. Siamo conosciuti come uno dei produttori e fornitori Sio2-Dry-Etching più competitivi in Cina. Forniamo anche imballaggi sfusi. Potresti aver bisogno di alcuni servizi personalizzati per soddisfare le effettive esigenze della tua regione, puoi lasciarci un messaggio attraverso le informazioni di contatto sulla pagina web. Diamo il benvenuto sinceramente ai clienti vecchi e nuovi a visitare la nostra fabbrica per la consultazione e la negoziazione.