Scegliete il sistema di incisione al plasma ICP di Semicorex per il processo PSS per processi di epitassia e MOCVD di alta qualità. Il nostro prodotto è progettato specificamente per questi processi, offrendo una resistenza superiore al calore e alla corrosione. Con una superficie pulita e liscia, il nostro supporto è perfetto per maneggiare wafer incontaminati.
Per saperne di piùInvia richiestaLa piastra per incisione al plasma ICP di Semicorex offre una resistenza superiore al calore e alla corrosione per la manipolazione dei wafer e i processi di deposizione di film sottili. Il nostro prodotto è progettato per resistere alle alte temperature e alla pulizia chimica dura, garantendo durata e longevità. Con una superficie pulita e liscia, il nostro supporto è perfetto per maneggiare wafer incontaminati.
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