Il vassoio portante per incisione PSS di Semicorex per la lavorazione dei wafer è progettato specificamente per le applicazioni impegnative di apparecchiature per epitassia. Il nostro supporto in grafite ultrapura è ideale per fasi di deposizione di film sottili come MOCVD, suscettori epitassia, piattaforme pancake o satellitari e processi di gestione dei wafer come l'incisione. Il vassoio portante per incisione PSS per la lavorazione dei wafer presenta un'elevata resistenza al calore e alla corrosione, eccellenti proprietà di distribuzione del calore e un'elevata conduttività termica. I nostri prodotti sono convenienti e hanno un buon vantaggio di prezzo. Ci rivolgiamo a molti mercati europei e americani e non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.
Per saperne di piùInvia richiestaNoi di Semicorex abbiamo progettato il vassoio portante per incisione PSS per LED appositamente per gli ambienti difficili richiesti per la crescita epitassiale e i processi di gestione dei wafer. Il nostro supporto in grafite ultrapura è ideale per fasi di deposizione di film sottili come MOCVD, suscettori epitassia, piattaforme pancake o satellitari e processi di gestione dei wafer come l'incisione. Il supporto rivestito in SiC ha un'elevata resistenza al calore e alla corrosione, eccellenti proprietà di distribuzione del calore e un'elevata conduttività termica. Il nostro vassoio portante per incisione PSS per LED è conveniente e offre un buon vantaggio in termini di prezzo. Ci rivolgiamo a molti mercati europei e americani e non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo term......
Per saperne di piùInvia richiestaLa piastra portante per incisione Semicorex PSS per semiconduttori è appositamente progettata per ambienti ad alta temperatura e pulizia chimica aggressiva richiesti per la crescita epitassiale e i processi di gestione dei wafer. La nostra piastra portante di incisione PSS ultra pura per semiconduttori è progettata per supportare i wafer durante le fasi di deposizione di film sottile come MOCVD e suscettori epitassia, pancake o piattaforme satellitari. Il nostro supporto rivestito in SiC ha un'elevata resistenza al calore e alla corrosione, eccellenti proprietà di distribuzione del calore e un'elevata conduttività termica. Forniamo soluzioni economicamente vantaggiose ai nostri clienti e i nostri prodotti coprono molti mercati europei e americani. Semicorex non vede l'ora di essere il vost......
Per saperne di piùInvia richiestaI supporti per wafer utilizzati nella crescita epissiale e nella lavorazione della movimentazione dei wafer devono resistere a temperature elevate e a una pulizia chimica aggressiva. Supporto per incisione PSS rivestito in SiC Semicorex progettato specificamente per queste impegnative applicazioni di apparecchiature per epitassia. I nostri prodotti hanno un buon vantaggio di prezzo e coprono molti mercati europei e americani. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.
Per saperne di piùInvia richiestaIl suscettore cilindrico rivestito in SiC Semicorex per la crescita epitassiale LPE è un prodotto ad alte prestazioni progettato per fornire prestazioni costanti e affidabili per un periodo prolungato. Il suo profilo termico uniforme, il modello di flusso del gas laminare e la prevenzione della contaminazione lo rendono la scelta ideale per la crescita di strati epitassiali di alta qualità su chip wafer. La sua personalizzazione e la sua convenienza lo rendono un prodotto altamente competitivo sul mercato.
Per saperne di piùInvia richiestaSemicorex Barrel Susceptor Epi System è un prodotto di alta qualità che offre un'adesione superiore del rivestimento, elevata purezza e resistenza all'ossidazione alle alte temperature. Il suo profilo termico uniforme, il modello di flusso di gas laminare e la prevenzione della contaminazione lo rendono la scelta ideale per la crescita degli strati epissiali sui chip wafer. La sua convenienza e la possibilità di personalizzazione lo rendono un prodotto altamente competitivo sul mercato.
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