Il rivestimento CVD SiC del riscaldatore per rivestimento SiC Semicorex offre prestazioni superiori nella protezione degli elementi riscaldanti dagli ambienti difficili, corrosivi e reattivi spesso incontrati in processi come la deposizione di vapori chimici metallo-organici (MOCVD) e la crescita epitassiale.**
Per saperne di piùInvia richiestaLe maniglie per cassette Semicorex in PFA e PTFE garantiscono il movimento sicuro ed efficiente delle cassette wafer nella lavorazione dei semiconduttori. Scegli Semicorex per maniglie durevoli e ad alte prestazioni che offrono resistenza chimica e stabilità termica superiori, garantendo una protezione ottimale dei wafer e un'efficienza produttiva.*
Per saperne di piùInvia richiestaSemicorex Wafer Cassette Box è una cassetta in fluoroplastica PFA con un'ampia area di apertura, progettata per migliorare le prestazioni di lavaggio e asciugatura dei wafer nella produzione di semiconduttori. Scegli Semicorex per la sua comprovata esperienza nella fornitura di soluzioni di gestione dei wafer di alta qualità, durevoli e chimicamente resistenti.*
Per saperne di piùInvia richiestaLe cassette wafer Semicorex PFA sono componenti ad alte prestazioni utilizzati per contenere e trasportare in sicurezza i wafer durante la lavorazione dei semiconduttori. Scegli Semicorex per la sua qualità leader del settore, che garantisce protezione superiore dei wafer, controllo della contaminazione e compatibilità con i sistemi automatizzati.*
Per saperne di piùInvia richiestaIl soffione doccia Semicorex CVD SiC è un componente principale utilizzato nelle apparecchiature di incisione dei semiconduttori, che funge sia da elettrodo che da condotto per i gas di incisione. Scegli Semicorex per il controllo superiore dei materiali, la tecnologia di elaborazione avanzata e le prestazioni affidabili e di lunga durata nelle applicazioni più impegnative dei semiconduttori.*
Per saperne di piùInvia richiestaIl soffione metallico, noto come piastra di distribuzione del gas o soffione per gas, è un componente critico ampiamente utilizzato nei processi di produzione di semiconduttori. La sua funzione primaria è quella di distribuire uniformemente i gas in una camera di reazione, garantendo che i materiali semiconduttori entrino in contatto uniforme con il processo gas.**
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