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Fin

Semicorex SiC Fin è un componente ceramico in carburo di silicio di elevata purezza progettato con precisione con una struttura a disco perforato per una gestione efficiente del flusso di gas e liquidi nelle apparecchiature di epitassia e incisione. Semicorex fornisce componenti personalizzati e di alta precisione che garantiscono durata, resistenza chimica e stabilità delle prestazioni superiori negli ambienti di processo dei semiconduttori.*

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Piastra di macinazione del wafer SiC

La piastra di macinazione per wafer SiC avanzata di Semicorex è la parte di lavorazione di precisione per ottenere una planarità ultraelevata sulle superfici dei wafer semiconduttori. La scelta della piastra di macinazione per wafer Semicorex SiC va oltre la scelta di uno strumento ad alte prestazioni, ma garantisce la soluzione ottimale, precisa, stabile ed efficiente per le applicazioni di macinazione dei wafer.

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Elementi di fissaggio compositi C/C

Elementi di fissaggio compositi C/C di Semicorex realizzati con materiali compositi carbonio-carbonio ad alte prestazioni, sottoposti a lavorazione di precisione per soddisfare standard rigorosi, tutti progettati specificamente per condizioni estreme di temperatura elevata. Ciò che distingue questi elementi di fissaggio compositi C/C è la loro combinazione di bassa densità, eccezionale resistenza alle alte temperature, stabilità termica superiore ed eccezionale resistenza chimica. Queste qualità insieme forniscono una soluzione di fissaggio sicura, affidabile e duratura, perfettamente adatta per apparecchiature di fascia alta.

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Mandrino in ceramica porosa personalizzato

Il mandrino in ceramica porosa personalizzato è la soluzione superiore di bloccaggio e fissaggio del pezzo progettata esclusivamente per la produzione di semiconduttori. Scegliere Semicorex significa beneficiare di qualità affidabile, servizi di personalizzazione e maggiore produttività.

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Crogioli compositi carbonio-carbonio

Progettati per sistemi a campo termico, i crogioli compositi carbonio-carbonio Semicorex sono una soluzione all'avanguardia composta da materiali compositi carbonio-carbonio in grado di resistere alle alte temperature. La loro resistenza eccezionale, conduttività termica superiore, forte stabilità chimica ed eccellente isolamento termico li rendono ideali per facilitare la crescita dei cristalli.

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Soffione doccia in silicone monocristallo

Il soffione doccia in silicio monocristallino, noto come testa di spruzzo del gas o piastra di distribuzione del gas, è un dispositivo di distribuzione del gas ampiamente utilizzato nei processi di produzione di semiconduttori per fasi chiave del processo come pulizia, incisione e deposizione. Il soffione doccia in silicio monocristallino di alta qualità ed economico è essenziale per migliorare la precisione e la qualità della produzione di chip nell'industria dei semiconduttori.

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