Chucks poroso di allumina

I mandrini di allumina porosi Semicorex sono costruiti appositamente per i wafer più delicati. Il loro design poroso fornisce la garanzia della costante distribuzione del vuoto attraverso la superficie del mandrino, che garantisce una ridotta stress localizzato e aiuta a prevenire la chipping e la rottura del bordo. Il serraggio meccanico (solido o altro) non è efficace come la rete microporosa che contiene anche delicati wafer senza lo stress meccanico eccessivo, fissando al contempo il wafer in modo sicuro, poiché la struttura microporosa previene l'usura e fornisce una presa delicata. La necessità di adsorbimento uniforme su tutta la superficie del mandrino è particolarmente fondamentale per i wafer che sono più grandi e più sottili che possono tollerare molto meno stress durante la gestione automatizzata e durante l'esecuzione di passaggi di elaborazione ad alta precisione.

Ottimizzato per la porosità del 35-40%, il Chuck sviluppa una rete di pori interconnessi che servono a evacuare l'aria fornendo al contempo sufficiente resistenza meccanica per tenere il wafer in atto contro le forze di processo. Ciò significa che la forza di detenzione del vuoto rimane stabile mentre si muovono i wafer, anche in rapida successione, mentre eseguono una sequenza di processo complessa. L'adsorbimento all'interno di una rete microporosa fornisce più stabilità rispetto alla semplice creazione di differenze di pressione all'interno del sistema a vuoto.

L'allumina nera (Al₂o₃), è il materiale finale perché è duro, resistente all'usura e chimicamente inerte. Non degraderà alcuna superficie apprezzabile ed non è influenzato attraverso cicli ripetuti del wafer (posizionamento/ adsorbimento/ raffreddamento del vuoto). Il neroAluminaè dimensionalmente stabile, quindi non cambierà nonostante le variazioni di temperatura che si verificano naturalmente durante il processo (riscaldamento e raffreddamento) o nell'ambiente.

La resistenza chimica è un altro vantaggio chiave dell'allumina nera. Il Chuck può operare in ambienti aggressivi di pulizia, plasma e incisione senza compromettere la sua integrità strutturale. La sua inerzia impedisce la contaminazione della superficie del wafer, garantendo un'elevata purezza di processo e aderenza agli standard delle camere pulite.

La struttura microporosa offre anche una superficie di supporto che allevia la concentrazione di stress su wafer sottili e fragili. In tandem con precisa planarità superficiale e finitura superficiale liscia, i mandrini porosi di allumina minimizzerà il verificarsi di micro-crack e graffi che potrebbero compromettere l'integrità del wafer a mano.

Ceramica di alluminaHa una superba durezza, un'elevata resistenza meccanica, un basso coefficiente di espansione termica e un'eccellente stabilità termica che lo rendono un materiale pratico per un'applicazione a semiconduttore di precisione. Inoltre, la sua inerzia chimica significa che può resistere ad acidi, alcali e plasma, mentre le proprietà di resistenza all'usura garantiscono una durata, questi vantaggi rendono l'allumina il materiale di scelta per i manichoni del vuoto microporoso e forniscono sia affidabilità che prevedibilità delle prestazioni.

In conclusione, i mandrini porosi di allumina sono progettati per fornire una manipolazione di wafer uniforme e sopravvissuta. La sua microporosa struttura di allumina nera offre anche adsorbimento del vuoto (uniformità) minimizzando lo stress meccanico e la riduzione del danno al wafer. Come mandrino, la porosità sostanziale e ottimale insieme alle eccezionali proprietà termiche, meccaniche e chimiche, aiuta a ottimizzare la sicurezza, il valore e l'affidabilità del funzionamento in condizioni di fabbricazione dure. L'eccellente combinazione di robusta, uniforme e maneggevolezza che i mandrini di allumina porosi possono offrire ai produttori sono semplicemente rari e unici.