Mandrino elettrostatico PBN

Proprietà dei materiali diPBNMandrino elettrostatico

Resistenza alle alte temperature e rigidità dielettrica

ILPBNIl mandrino elettrostatico è rinomato per la sua eccezionale resistenza alle alte temperature, una caratteristica fondamentale nel processo di produzione dei semiconduttori. Il nitruro di boro pirolitico (PBN), il materiale utilizzato nella costruzione del mandrino, presenta una resistività superiore rispetto alla ceramica più comunemente utilizzata, che è fondamentale per mantenere la forza del mandrino Johnsen-Rahbek (J-R) fino a temperature di 1050°C. Questa elevata resistività, unita all'elevata rigidità dielettrica, garantisce che i guasti elettrici siano efficacemente prevenuti anche in condizioni di calore intenso, migliorando così l'affidabilità operativa del mandrino.

Uniformità termica e resistenza agli urti

La struttura reticolare esagonale del PBN, preparata mediante deposizione chimica di vapore a temperature superiori a 1500°C, contribuisce alla sua eccezionale uniformità termica e resistenza agli urti. Gli elementi riscaldanti ad alta densità all'interno delPBNIl mandrino elettrostatico consente di ottenere un profilo termico del wafer coerente con una buona uniformità dell'1,1–1,5% a temperature di 600–800°C. Inoltre, il mandrino basato su PBN dimostra una notevole resistenza agli shock termici e una massa termica inferiore, consentendogli di raggiungere i 600°C a una velocità di rampa rapida di 23°C/sec senza il rischio di rotture o delaminazione.

Riscaldamento multizona personalizzabile

Il mandrino elettrostatico PBN è altamente personalizzabile, dotato di funzionalità di riscaldamento multizona che consentono il massimo controllo della temperatura. Questo livello di personalizzazione garantisce che ogni mandrino possa essere adattato per soddisfare le esigenze specifiche dei singoli clienti, fornendo una soluzione flessibile per varie applicazioni di lavorazione dei semiconduttori.

Applicazioni diPBNMandrino elettrostatico

Impianto di ioni e gestione dei wafer

Il mandrino elettrostatico PBN è l'apparato preferito per la gestione dei wafer nei processi di impiantazione ionica. La sua capacità di trattenere i wafer a temperature superiori a 1000°C lo rende uno dei mandrini elettrostatici più versatili sul mercato. Questa versatilità è ulteriormente migliorata dalla sua capacità di mantenere i wafer entro intervalli di temperatura molto ristretti, grazie agli elementi riscaldanti multizona ad alta densità.

Impianto di ioni di carburo di silicio

Nell'applicazione specifica dell'impianto ionico SiC, ilPBNIl mandrino elettrostatico offre una soluzione praticabile alle sfide legate al riscaldamento e alla movimentazione dei wafer. Le sue capacità a doppia funzione, che includono elevata forza di serraggio, elevato potere di riscaldamento, buona uniformità termica e risposta rapida, lo rendono la scelta ideale per soddisfare i complessi requisiti dell'impianto ionico SiC.

Produzione di semiconduttori

Il mandrino elettrostatico PBN svolge un ruolo fondamentale nella produzione di semiconduttori, dove la manipolazione precisa dei wafer e il controllo della temperatura sono essenziali. La sua elevata resistenza agli shock termici e le rapide capacità di incremento della temperatura lo rendono adatto a processi avanzati di semiconduttori che richiedono una rigorosa gestione della temperatura e rapidi cicli termici.