Perché scegliere suscettori di grafite rivestiti in SiC?

Suscettore di grafiteè una delle parti essenziali dell'apparecchiatura MOCVD, è il vettore e il riscaldatore del substrato di wafer. Le sue proprietà di stabilità termica e uniformità termica giocano un ruolo decisivo nella qualità della crescita epitassiale del wafer, che determina direttamente l'uniformità e la purezza dei materiali dello strato, di conseguenza la sua qualità influisce direttamente sulla preparazione dell'epitassia. Nel frattempo, con l'aumento del numero di utilizzi e il cambiamento delle condizioni di lavoro, è molto facile perderlo e appartiene ai materiali di consumo. L'eccellente conduttività termica e la stabilità della grafite ne fanno un buon vantaggio comeun componente di base per le apparecchiature MOCVD. Tuttavia, se viene utilizzata solo grafite pura, dovrà affrontare alcuni problemi. Ci saranno gas corrosivi e residui organici metallici nel processo di produzione e la base di grafite si corroderà e lascerà cadere la polvere, il che riduce notevolmente la durata delsuscettore di grafite, e anche la polvere di grafite caduta causerà inquinamento al truciolo, quindi anche nel processo di preparazione della base Questi problemi devono essere risolti durante la preparazione della base. La tecnologia di rivestimento può fornire la fissazione della polvere superficiale, migliorare la conducibilità termica ed equalizzare la distribuzione termica, che diventa la tecnologia principale per risolvere questo problema. La tecnologia principale è risolvere questo problema. In base all'ambiente applicativo e ai requisiti disuscettori di grafite, il rivestimento superficiale dovrebbe avere le seguenti caratteristiche.

Elevate densità e avvolgimento completo: la base di grafite nel suo insieme si trova in un ambiente di lavoro corrosivo ad alta temperatura, la superficie deve essere completamente avvolta, mentre il rivestimento deve avere buone densità per svolgere un buon ruolo protettivo.

Buona planarità della superficie: poiché la base di grafite utilizzata per la crescita del singolo cristallo richiede una planarità della superficie molto elevata, la planarità originale della base deve essere mantenuta dopo la preparazione del rivestimento, ovvero la superficie del rivestimento deve essere uniforme.

Buona forza di adesione: la riduzione della differenza del coefficiente di dilatazione termica tra la base di grafite e il materiale di rivestimento può migliorare efficacemente la forza di adesione tra di loro e il rivestimento non è facile da rompere dopo cicli termici ad alta e bassa temperatura.

Elevata conduttività termica: la crescita del truciolo di alta qualità richiede un calore rapido e uniforme dalla base di grafite, quindi il materiale di rivestimento dovrebbe avere un'elevata conduttività termica.

Elevato punto di fusione, ossidazione ad alta temperatura e resistenza alla corrosione: il rivestimento deve essere in grado di funzionare stabilmente in ambienti di lavoro ad alta temperatura e corrosivi.