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Serbatoio di pulizia

Serbatoio di pulizia

Il serbatoio di pulizia Semicorex, un componente fondamentale nel processo di produzione dei semiconduttori, è progettato con precisione e competenza per soddisfare le rigorose esigenze del settore. Semicorex si impegna a fornire prodotti di qualità a prezzi competitivi, non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina*.

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Descrizione del prodotto

Il serbatoio di pulizia Semicorex è realizzato in quarzo di alta qualità, offre prestazioni e affidabilità senza pari, garantendo che i wafer dei semiconduttori siano accuratamente puliti e privi di contaminanti che potrebbero comprometterne l'integrità.

Per la costruzione della vasca di lavaggio viene scelto il quarzo per la sua eccezionale resistenza chimica e stabilità termica. Il serbatoio per la pulizia al quarzo resiste ai prodotti chimici aggressivi comunemente utilizzati nei processi di pulizia, come l'acido fluoridrico e altri agenti aggressivi. La sua stabilità termica garantisce che possa resistere alle alte temperature spesso richieste nella lavorazione dei semiconduttori senza deformarsi o degradarsi, mantenendo la sua integrità strutturale e le prestazioni per lunghi periodi.

Il design del serbatoio di pulizia è meticolosamente progettato per ottimizzare il processo di pulizia. Il suo interno liscio e senza giunture riduce al minimo la generazione di particelle e previene l'accumulo di contaminanti. Il serbatoio di pulizia è progettato per accogliere vari metodi di pulizia, inclusi bagni chimici, pulizia ad ultrasuoni e pulizia megasonica. Ciascun metodo presenta vantaggi specifici e la versatilità del serbatoio di pulizia ne consente l'utilizzo in più fasi del processo di pulizia, dalla pulizia iniziale del wafer al risciacquo e all'asciugatura finali.

Nei bagni chimici, la vasca di pulizia garantisce che i wafer siano esposti in modo uniforme alle soluzioni detergenti, favorendo una pulizia coerente e approfondita. L'esposizione uniforme è fondamentale per rimuovere particolato, residui organici e contaminanti metallici dalla superficie del wafer. Nella pulizia ad ultrasuoni e megasonica, le onde sonore ad alta frequenza creano microscopiche bolle di cavitazione nella soluzione detergente. Quando queste bolle collassano, generano potenti onde d'urto che spostano e rimuovono i contaminanti dalla superficie del wafer. La robusta struttura in quarzo del serbatoio di pulizia è in grado di resistere alle condizioni intense generate da questi metodi di pulizia, garantendo durata ed efficacia a lungo termine.


Tag caldi: Serbatoio di pulizia, Cina, produttori, fornitori, fabbrica, personalizzato, sfuso, avanzato, durevole

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