Mandrino sottovuoto Al2O3

Applicazioni nella produzione di semiconduttori

SemicorexAl2O3 Vacuum Chuck è uno strumento versatile utilizzato in più fasi della produzione di semiconduttori:

Assottigliamento: durante il processo di assottigliamento dei wafer, il mandrino sottovuoto Al2O3 fornisce un supporto stabile e uniforme, garantendo una riduzione del substrato ad alta precisione. Ciò è fondamentale per migliorare la dissipazione del calore del chip e migliorare le prestazioni del dispositivo.

Taglio a cubetti: nella fase di taglio a cubetti, in cui i wafer vengono tagliati in singoli chip, il mandrino sottovuoto Al2O3 offre un assorbimento sicuro e stabile, riducendo al minimo il rischio di danni e garantendo tagli puliti.

Pulizia: la superficie di assorbimento liscia e uniforme del mandrino sottovuoto Al2O3 lo rende adatto ai processi di pulizia dei wafer, garantendo che i contaminanti vengano rimossi efficacemente senza danneggiare i wafer.

Trasporto: durante la movimentazione e il trasporto dei wafer, il mandrino sottovuoto Al2O3 fornisce un supporto affidabile e sicuro, riducendo il rischio di danni e contaminazione.

SemicorexVuotoChuck flusso

Vantaggi del mandrino sottovuoto Semicorex Al2O3

1. Tecnologia ceramica microporosa uniforme

Il mandrino sottovuoto Al2O3 è costruito utilizzando la tecnologia ceramica microporosa, che prevede l'uso di nanopolveri di dimensioni uniformi. Questa tecnologia garantisce che i pori siano distribuiti uniformemente e interconnessi, determinando un'elevata porosità e una struttura uniformemente densa. Questa uniformità migliora le prestazioni del mandrino a vuoto, fornendo un supporto wafer coerente e affidabile.

2. Proprietà materiali eccezionali

L'allumina ultrapura al 99,99% (Al2O3) utilizzata nel mandrino sottovuoto Al2O3 offre una gamma di proprietà eccezionali:

Proprietà termiche: grazie all'elevata resistenza al calore e all'eccellente conduttività termica, il mandrino sottovuoto Al2O3 può resistere alle alte temperature comunemente incontrate nella produzione di semiconduttori.

Proprietà meccaniche: l'elevata resistenza e durezza dell'allumina assicurano che il mandrino sottovuoto Al2O3 sia durevole e resistente all'usura, fornendo prestazioni di lunga durata.

Altre proprietà: L'allumina offre anche un elevato isolamento elettrico e resistenza alla corrosione, rendendo il mandrino sottovuoto Al2O3 adatto ad un'ampia gamma di ambienti di produzione.

3. Planarità e parallelismo superiori

Uno dei principali vantaggi del mandrino sottovuoto Al2O3 è la sua elevata planarità e parallelismo. Queste proprietà sono fondamentali per garantire una gestione precisa e stabile dei wafer, ridurre al minimo il rischio di danni e garantire risultati di elaborazione coerenti. Inoltre, la buona permeabilità all'aria e la forza di assorbimento uniforme del mandrino a vuoto Al2O3 garantiscono un funzionamento regolare e affidabile.

4. Opzioni di personalizzazione

Noi di Semicorex comprendiamo che ogni processo di produzione di semiconduttori ha requisiti unici. Ecco perché offriamo mandrini a vuoto personalizzati su misura per soddisfare le vostre esigenze specifiche. A seconda della planarità richiesta e dei costi di produzione, consigliamo diversi materiali di base, garantendo che il peso e le prestazioni del mandrino a vuoto siano ottimizzati per la vostra applicazione. Questi materiali includono acciaio inossidabile SUS430, lega di alluminio 6061, ceramica di allumina densa (colore avorio), granito e ceramica densa di carburo di silicio.

Misurazione CMM con mandrino a vuoto Al2O3