Grafite ultrasottile con elevata porosità

Adesione superiore delle particelle superficiali ed eccellenti caratteristiche antipolvere: la grafite ultrasottile Semicorex con elevata porosità mostra un'eccezionale adesione delle particelle superficiali, garantendo una generazione minima di polvere e mantenendo un ambiente di lavoro pulito, che è fondamentale per applicazioni sensibili come la produzione di semiconduttori.

Tolleranza alle alte temperature: la grafite ultrasottile con elevata porosità può resistere a temperature estreme fino a 2500°C, rendendola adatta per processi ad alta temperatura e ambienti in cui i materiali convenzionali fallirebbero.

Elevata porosità fino al 65%: l'elevata porosità della grafite porosa consente un flusso efficiente di gas e fluidi, consentendo un migliore trasferimento di massa e dissipazione del calore in varie applicazioni.

Grafite porosa ultrasottile con eccellente lavorabilità: la grafite ultrasottile con elevata porosità può essere fabbricata in fogli ultrasottili sottili fino a 1,5 mm mantenendo un'elevata porosità, fornendo flessibilità nella progettazione e nell'applicazione.

Lavorabilità per forme cilindriche con pareti ultrasottili: la grafite ultrasottile con elevata porosità può essere lavorata in forme cilindriche con pareti ultrasottili con spessori di parete ≤1 mm, offrendo versatilità nella progettazione e funzionalità dei componenti.

Eccellenti proprietà isolanti e uniformità del lotto: la grafite ultrasottile con elevata porosità dimostra eccezionali caratteristiche isolanti e prestazioni costanti da lotto a lotto, garantendo risultati affidabili e riproducibili in applicazioni critiche.

Materiale di grafite porosa ultrapura: la grafite ultrasottile con elevata porosità è disponibile in forme ultrapure, raggiungendo elevati livelli di purezza essenziali per applicazioni impegnative come la produzione di semiconduttori.

Elevata resistenza: nonostante la sua natura porosa, la grafite ultrasottile con elevata porosità mostra una resistenza impressionante, rendendola adatta per componenti strutturali e applicazioni portanti.

Applicazioni nella produzione di semiconduttori:

La grafite ultrasottile con elevata porosità viene utilizzata principalmente nell'industria dei semiconduttori, in particolare nel nuovo processo di trasferimento di massa. Questo processo impiega un nuovo campo termico per il trasferimento di massa a passaggio singolo, migliorando significativamente l'efficienza di trasferimento e mantenendo una velocità costante, riducendo così l'impatto della ricristallizzazione (evitando il trasferimento di massa a doppio passaggio) e minimizzando efficacemente le micro-tubazioni o altri difetti cristallini correlati. Inoltre, la grafite porosa aiuta a bilanciare i componenti della fase gassosa, a isolare tracce di impurità, a regolare le temperature locali e a ridurre l’incapsulamento delle particelle fisiche. Soddisfacendo i requisiti di utilizzabilità dei cristalli, la grafite porosa consente un aumento sostanziale dello spessore dei cristalli, rendendola una tecnologia chiave per affrontare la sfida della crescita di cristalli più spessi.