Anello di tenuta rivestito in TaC

L'anello di tenuta rivestito in TaC Semicorex applicato ai componenti di tenuta offre eccezionali vantaggi prestazionali negli ambienti esigenti della fabbricazione di semiconduttori. Il rivestimento TaC affronta le sfide critiche legate alla resistenza chimica, alle temperature estreme e all'usura meccanica, consentendo rendimenti di processo più elevati, tempi di attività più lunghi delle apparecchiature e, in definitiva, costi di produzione inferiori. Noi di Semicorex ci dedichiamo alla produzione e alla fornitura di anelli di tenuta rivestiti in TaC ad alte prestazioni che fondono la qualità con l'efficienza dei costi.**

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Descrizione del prodotto

L'anello di tenuta rivestito in TaC Semicorex mostra un'eccezionale inerzia verso un'ampia gamma di gas corrosivi e sostanze chimiche impiegate nei processi dei semiconduttori, compresi i prodotti chimici di incisione al plasma (ad esempio fluoro, cloro, bromo), droganti (ad esempio boro, fosforo, arsenico) e agenti aggressivi detergenti. Questa inerzia previene il degrado delle guarnizioni e la contaminazione delle camere di processo sensibili.

Inoltre, con un punto di fusione superiore a 3800°C, l'anello di tenuta rivestito in TaC mantiene la sua integrità strutturale e resistenza meccanica alle temperature elevate incontrate durante la lavorazione dei wafer. Ciò garantisce prestazioni di tenuta affidabili durante i processi di ricottura, deposizione e incisione ad alta temperatura.

L'estrema durezza e il basso coefficiente di attrito dell'anello di tenuta rivestito in TaC forniscono un'eccezionale resistenza all'usura, ai graffi e all'abrasione. Ciò è fondamentale nelle applicazioni di tenuta dinamica in cui il movimento ripetuto o il contatto con wafer e altri componenti può portare alla generazione di particelle e al guasto della tenuta.

L'anello di tenuta rivestito in TaC presenta tassi di degassamento molto bassi, anche a temperature elevate, rendendolo ideale per applicazioni ad alto vuoto. Ciò garantisce la purezza del processo e impedisce la deposizione di contaminanti indesiderati sulle superfici sensibili dei wafer.

Vantaggi specifici nelle applicazioni a semiconduttore:

Durata della tenuta estesa:L'anello di tenuta rivestito in TaC aumenta significativamente la durata della tenuta fornendo una resistenza superiore agli attacchi chimici, al degrado termico e all'usura meccanica. Ciò riduce la frequenza di sostituzione delle guarnizioni, riducendo al minimo i tempi di fermo e i costi di manutenzione.

Rendimento del processo e qualità dei wafer migliorati:La natura inerte dell'anello di tenuta rivestito in TaC riduce al minimo la generazione e la contaminazione di particelle, garantendo rendimenti di processo più elevati e una migliore qualità dei wafer. Ciò è fondamentale per la produzione di dispositivi a semiconduttore ad alte prestazioni con rigorose tolleranze ai difetti.

Maggiore operatività e produttività delle apparecchiature:La maggiore durata delle tenute e le ridotte esigenze di manutenzione contribuiscono ad aumentare i tempi di attività delle apparecchiature e la produttività complessiva. Ciò è fondamentale per massimizzare la produzione e soddisfare le esigenze della produzione di semiconduttori in grandi volumi.