Campana di quarzo a semiconduttore

Semicorex Semiconductor Quartz Bell Jar è un recipiente specializzato costruito con materiale di quarzo di elevata purezza. Il suo design è studiato su misura per soddisfare i rigorosi requisiti dei processi di produzione dei semiconduttori, dove purezza e pulizia sono fondamentali. Semicorex si impegna a fornire prodotti di qualità a prezzi competitivi, non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina.

Invia richiesta

Descrizione del prodotto

La campana di quarzo Semicorex Semiconductor è generalmente realizzata in quarzo sintetico fuso, un materiale noto per la sua eccezionale purezza, resistenza alle alte temperature e proprietà di bassa espansione termica. Ciò garantisce che la camera non introduca contaminanti o impurità nel processo di fabbricazione dei semiconduttori.

La campana di quarzo a semiconduttore è tipicamente cilindrica o a forma di cupola, con una base piatta o leggermente curva per accogliere wafer o substrati semiconduttori. È dotato di un meccanismo di chiusura ermetico progettato con precisione, come una flangia o una guarnizione O-ring, per mantenere un vuoto o un'atmosfera controllata all'interno della camera durante la lavorazione.

La campana di quarzo a semiconduttore offre un'eccellente chiarezza ottica, consentendo agli operatori di monitorare visivamente i processi all'interno della camera senza compromettere la precisione o introdurre interferenze. Il quarzo è altamente resistente agli attacchi chimici della maggior parte degli acidi, delle basi e dei solventi comunemente utilizzati nei processi di fabbricazione dei semiconduttori. Ciò garantisce l'integrità della camera e previene la contaminazione dei substrati.

Il quarzo ha un punto di fusione e una stabilità termica elevati, consentendo alla campana di vetro al quarzo semiconduttore di resistere alle temperature elevate incontrate durante i processi di deposizione o ricottura senza deformazione o degradazione.

Applicazioni:

Deposizione: le campane di quarzo semiconduttore sono utilizzate in varie tecniche di deposizione come la deposizione chimica da vapore (CVD), la deposizione fisica da vapore (PVD) e la deposizione di strati atomici (ALD) per depositare pellicole sottili di materiali su substrati semiconduttori con precisione e uniformità.

Incisione: vengono impiegati nei processi di incisione al plasma per rimuovere selettivamente il materiale dai wafer semiconduttori, creando modelli e strutture complessi con elevata precisione e ripetibilità.

Ricottura: le campane di vetro vengono utilizzate nei processi di ricottura per sottoporre i wafer semiconduttori a un trattamento termico controllato, facilitando la cristallizzazione, l'attivazione dei droganti e la riduzione dello stress nei film depositati.