Cos'è un sistema MOCVD?

MOCVD, noto come Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD), è una tecnica per la crescita di sottili film semiconduttori su un substrato. Con MOCVD, molti nanostrati possono essere depositati con grande precisione, ciascuno con uno spessore controllato, per formare materiali con specifiche proprietà ottiche ed elettriche.

Un sistema MOCVD è un tipo di sistema di deposizione chimica in fase di vapore (CVD) che utilizza precursori organici metallici per depositare film sottili di materiale su un substrato. Il sistema è costituito da un recipiente del reattore, un sistema di erogazione del gas, un supporto del substrato e un sistema di controllo della temperatura. I precursori organici metallici vengono introdotti nel recipiente del reattore insieme a un gas di trasporto e la temperatura viene attentamente controllata per garantire la crescita di un film sottile di alta qualità.

L'uso di MOCVD presenta numerosi vantaggi rispetto ad altre tecniche di deposizione. Un vantaggio è che consente la deposizione di materiali complessi con un controllo preciso dello spessore e della composizione dei film sottili. Ciò è particolarmente importante per la produzione di dispositivi semiconduttori ad alte prestazioni, in cui le proprietà dei materiali dei film sottili possono avere un impatto significativo sulle prestazioni del dispositivo.

Un altro vantaggio di MOCVD è che può essere utilizzato per depositare film sottili su una varietà di substrati, tra cui silicio, zaffiro e arseniuro di gallio. Questa flessibilità lo rende un processo essenziale nella produzione di un'ampia gamma di dispositivi a semiconduttore, dai chip per computer ai LED.

I sistemi MOCVD sono ampiamente utilizzati nell'industria dei semiconduttori e sono stati determinanti nello sviluppo di molte tecnologie avanzate. Ad esempio, MOCVD è stato utilizzato per produrre LED ad alta efficienza per applicazioni di illuminazione e display, nonché celle solari ad alte prestazioni per applicazioni fotovoltaiche.