Wafer di silicio monocristallino

Nella produzione diwafer di silicio monocristallino, il metodo Czochralski (CZ) viene utilizzato per produrre barre di silicio monocristallino con struttura completa e impurità estremamente bassa

contenuto. Quindi, queste barre di silicio monocristallino vengono sottoposte a lavorazioni precise come taglio, molatura, lucidatura e pulizia per essere trasformate in wafer di silicio monocristallino. Questi wafer di silicio monocristallino hanno un'elevata purezza, soprattutto il wafer a livello di IC, che può raggiungere oltre 9N (99,9999999%), efficiente garantendo ottime prestazioni elettriche.

Il silicio monocristallino occupa oltre il 90% del mercato dei materiali semiconduttori. Attualmente è il materiale semiconduttore più significativo, ampiamente utilizzato nelle industrie della tecnologia dell'informazione e della produzione di circuiti integrati.

Aree di applicazione:

1.chip logici ad alte prestazioni (come CPU, GPU, FPGA), chip di memoria (come DRAM, NAND Flash), chip analogici (come ADC e DAC) nel settore della produzione di circuiti integrati.

2.Dispositivi elettronici di fascia alta (come sensori di immagine CMOS (CIS) e sensori MEMS) nel settore della tecnologia dell'informazione.

Specifiche del wafer:

Semicorex fornisce servizi personalizzati per i propri clienti e può personalizzare wafer con diversa resistività, contenuto di ossigeno, spessore e altre specifiche in base alle esigenze specifiche dei diversi clienti. Per assistere i clienti nella risoluzione di una serie di problemi che si presentano durante il processo di produzione, forniamo anche supporto tecnico esperto e servizio post-vendita.