Mandrino dell'ESC

Semicorex ESC Chuck utilizza forze elettrostatiche per mantenere un controllo preciso sulla posizione del wafer, garantendo elevata precisione e ripetibilità negli ambienti di produzione di semiconduttori. Il design del mandrino ESC, abbinato alla robusta selezione dei materiali e alle dimensioni personalizzabili, lo rende uno strumento versatile ed essenziale in processi quali incisione, deposizione e impiantazione ionica.

Il mandrino ESC funziona applicando un campo elettrostatico ad alta tensione tra gli elettrodi del mandrino e il wafer, creando una forza attrattiva che mantiene il wafer in posizione. Il wafer, tipicamente realizzato in silicio o carburo di silicio, è fissato da questa forza, consentendo operazioni precise in ambienti ad alto vuoto. Questo sistema elimina la necessità di bloccaggio meccanico o bloccaggio a vuoto, che possono introdurre contaminanti o distorcere il wafer. Utilizzando un mandrino ESC, i produttori possono ottenere un ambiente più pulito e stabile per i delicati processi di fabbricazione, con conseguenti rendimenti più elevati e risultati più coerenti.

Uno dei principali vantaggi della tecnologia ESC è la sua capacità di mantenere una presa salda sul wafer distribuendo la forza in modo uniforme sulla sua superficie. Ciò garantisce che il wafer rimanga piatto e stabile, il che è fondamentale per ottenere un'incisione o una deposizione uniforme, soprattutto nei processi in cui è richiesta una precisione inferiore al micron. Le dimensioni personalizzabili del mandrino ESC gli consentono di ospitare wafer di diverse dimensioni, da wafer standard da 200 mm e 300 mm a dimensioni specializzate e non standard utilizzate nella ricerca e sviluppo o nella produzione di dispositivi a semiconduttore di nicchia.

I materiali utilizzati nella costruzione del mandrino ESC sono accuratamente selezionati per garantire la compatibilità con gli ambienti difficili tipici della lavorazione dei semiconduttori. L'allumina ceramica di elevata purezza viene utilizzata grazie alle sue eccellenti proprietà di isolamento elettrico, stabilità termica e resistenza alla corrosione del plasma. Queste proprietà consentono al mandrino di funzionare efficacemente sia in condizioni di alta temperatura che di alto vuoto, fornendo la durata e l'affidabilità necessarie per l'uso a lungo termine in un ambiente di camera bianca.

La personalizzazione è un altro vantaggio significativo dei mandrini ESC. A seconda dei requisiti specifici di un processo di fabbricazione di semiconduttori, le dimensioni del mandrino, le configurazioni degli elettrodi e le composizioni dei materiali possono essere personalizzate per soddisfare le esigenze specifiche delle apparecchiature e dei wafer in fase di lavorazione. Sia che l'applicazione coinvolga l'incisione al plasma, la deposizione chimica in fase vapore (CVD) o la deposizione fisica in fase vapore (PVD), il mandrino ESC può essere progettato per ottimizzare le prestazioni e mantenere l'integrità del wafer durante la lavorazione.