Porta wafer di rivestimento CVD

Il porta wafer di rivestimento CVD Semicorex è una parte ad alte prestazioni, progettata per supportare e contenere wafer durante la crescita precisa di materiali a semiconduttore utilizzando processi di epitassia. È ricoperto di carburo di TantaLum (TAC), che contribuisce alla sua eccezionale durata e affidabilità nelle condizioni impegnative.

Caratteristiche chiave:

Rivestimento in carburo di tantalum: Il rivestimento del supporto di wafer con carburo di Tantalum (TAC) è dovuto alla sua durezza, resistenza all'usura e stabilità termica. Questo rivestimento contribuisce in modo significativo alla capacità del prodotto di resistere agli ambienti chimici duri e alle alte temperature e trova l'applicazione nel portare esattamente ciò che è richiesto dalla produzione di semiconduttori.

Tecnologia di rivestimento supercritico: il rivestimento viene applicato utilizzando un metodo di deposizione di fluidi supercritici che garantisce lo strato uniforme e denso di TAC. La tecnologia di rivestimento avanzata offre una migliore riduzione dell'adesione e dei difetti, offrendo un rivestimento di alta qualità e duratura con longevità garantita.

Spessore di rivestimento: il rivestimento TAC può raggiungere uno spessore fino a 120 micron, fornendo un equilibrio ideale di durata e precisione. Questo spessore garantisce che il supporto del wafer possa resistere a temperature elevate, pressioni e ambienti reattivi senza compromettere la sua integrità strutturale.

Eccellente stabilità termica: il rivestimento in carburo di TantaLum offre un'eccezionale stabilità termica, consentendo al porta wafer di funzionare in modo affidabile nelle condizioni ad alta temperatura tipiche dei processi di epitassia a semiconduttore. Questa funzione è cruciale per mantenere risultati coerenti e garantire la qualità del materiale semiconduttore.

Resistenza alla corrosione e all'usura: il rivestimento TAC fornisce un'eccellente resistenza alla corrosione e all'usura, garantendo che il supporto del wafer possa sopportare l'esposizione a gas reattivi e sostanze chimiche comunemente presenti nei processi di semiconduttore. Questa durata estende la vita del prodotto e riduce la necessità di frequenti sostituti, migliorando l'efficienza operativa.

Applicazioni:

Il supporto del wafer di rivestimento CVD è specificamente progettato per i processi di epitassia a semiconduttore, in cui sono essenziali un controllo preciso e l'integrità del materiale. È usato in tecniche come l'epitassia del fascio molecolare (MBE), la deposizione di vapore chimico (CVD) e la deposizione di vapore chimico metallo-organico (MOCVD), dove il titolare del wafer deve resistere a temperature estreme e ambienti reattivi.

Nell'epitassia a semiconduttore, la precisione è cruciale per la crescita di film sottili di alta qualità su un substrato. Il titolare del wafer di rivestimento CVD garantisce che i wafer siano supportati in modo sicuro e mantenuto in condizioni ottimali, contribuendo alla produzione costante di materiali a semiconduttore di alta qualità.

Il porta wafer di rivestimento CVD Semicorex viene progettato utilizzando materiali all'avanguardia e tecnologie di rivestimento avanzate per soddisfare le elevate esigenze dell'epitassia a semiconduttore. L'uso della deposizione di fluidi supercritici per un rivestimento TAC spesso e uniforme garantisce una durata, precisione e longevità senza pari. Con la sua resistenza termica e chimica superiore, il nostro porta wafer è progettato per offrire prestazioni affidabili negli ambienti più impegnativi, contribuendo a migliorare l'efficienza dei processi di produzione di semiconduttori.