Vassoio di supporto del crogiolo

Nella produzione di semiconduttori ad alta temperatura, stabilità e precisione sono fondamentali per garantire una qualità dei cristalli costante. Il vassoio di supporto per crogiolo Semicorex svolge un ruolo vitale ma spesso trascurato nel mantenimento dell'integrità del processo di crescita dei cristalli fornendo una base affidabile in condizioni termiche e meccaniche estreme.

Il vassoio di supporto del crogiolo, noto anche come acarbonio/carbonio (C/C)supporto per crogiolo, è specificatamente progettato per supportare crogioli di quarzo o grafite durante la crescita del silicio monocristallino. Posizionato alla base del campo termico, questo componente deve resistere a un'esposizione prolungata alle alte temperature mantenendo l'integrità strutturale e la stabilità dimensionale. Il suo design robusto garantisce che il crogiolo rimanga posizionato saldamente durante tutto il processo, riducendo al minimo le vibrazioni, la deformazione o il disallineamento che potrebbero influire negativamente sulla qualità dei cristalli.

Ruolo del vassoio di supporto C/C

Durante la crescita del silicio monocristallino, le temperature spesso superano i 1400°C. I materiali tradizionali in grafite, sebbene utili, spesso devono affrontare sfide relative alla durata e alla deformazione sotto il peso elevato del silicio fuso. Il nostro vassoio di supporto per crogiolo composito C/C risolve questi punti critici.

Utilizzando una matrice rinforzata con fibra di carbonio ad alta resistenza, questo vassoio offre un profilo di espansione termica "quasi zero" e un'eccezionale capacità di carico. Funge da interfaccia tra il crogiolo e l'albero rotante, mantenendo un piano perfettamente livellato per prevenire turbolenze nella fusione e difetti dei cristalli.

Specifiche tecniche ed eccellenza dei materiali

Densità: ≥ 1,3 g/cm³

Resistenza alla flessione: ≥ 110 MPa

Coefficiente di dilatazione termica (CTE): ≤ 1,0 × 10⁻⁶ /K

Resistenza alla compressione:  ≥ 160 MPa